第3讲净化间动力及净化设备.pdfVIP

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2017-09-10 发布于河北
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第3讲净化间动力及净化设备

微机电系统制程 Microfabrication technology 第三讲：净化间动力及净化设备乔大勇课程内容一保障设备体系二原理与操作三日常维护保障设备体系－1 恒温/恒湿机保持净化间恒温恒湿环境备设障保备设艺工冰水机 RIE/ICP/磁控/LPCVD/清洗台 (KOH) 纯水机清洗台/显影台空气压缩机 RIE/ICP/LPCVD/光刻机真空系统光刻机/涂胶机保障设备体系－2 毒排风 LPCVD柜体热排风扩散炉/磁控/RIE/ICP 酸碱排风显影台 (去胶槽)/清洗台备设障保酸碱中和池清洗台/显影台 (去胶槽) 备设艺工有机排风显影台 (显影槽)/涂胶机有机存贮池显影台 (显影槽) 尾气排风 LPCVD(泵组) 尾气处理 LPCVD(泵组) 气柜排风特气柜气柜排风与尾气排风为24小时不间断并配有备用风机保障设备体系－3 SF6气盘 RIE(刻蚀多晶硅）/ ICP(刻蚀) C4F8气盘 ICP(钝化) CF4气盘 RIE(刻蚀氮化硅) 备设障保 CHF3气盘 RIE(刻蚀二氧化硅) 备设艺工 SiH4气柜 LPCVD (淀积多晶硅) PH3气柜 LPCVD (淀积磷硅玻璃) TEOS源加热器 LPCVD (淀积二氧化硅) SiH2Cl2气柜 LPCVD (淀积氮化硅) NH3气柜 LPCVD (淀积氮化硅)