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ch2_异质结和MQW,SL
第一部分 半导体器件
第一章 pn结二极管
第二章 异质结二极管(量子阱、超晶格)
第三章 金属-半导体肖特基二极管(包括欧姆接
触和肖特基接触)
郑 新 和
1
第二章 半导体异质结与量子阱、超晶格
2.1 半导体异质结
2.2 量子阱、超晶格
2
2.1 半导体异质结(Semiconductor Heterojunction)
(1)异质结基本要求
不同半导体材料:一般是窄带隙和宽带隙
3
异质突变结:带隙由一种半导体直接变为另一种半导体,如
Ge/GaAs等
异质缓变结:两种半导体的带隙连续变化形成,如GaAs/Al1-
Ga As异质结等
x x
晶格常数匹配。如不匹配,将形成缺陷和界面态。
问题:异质结的突变结、缓变结与pn结中突变结、缓变结有什么区别?
4
(2)异质结能带图(band alignment)
构成异质结的两种半导体材料具有不同的带隙宽度E 、电子亲和势、
g
电离能和功函数W ,而结的电学特性强烈地依赖于这些参数。
根据和E 的相对值,窄带隙和宽带隙形成的异质结有三种类型:
g
(a)跨骑型或I型,straddling; (b)交错型或II型,staggered; (c)错开型
或III型,broken 。其中I型从技术上讲最为重要。
5
为描述方便,将宽带隙半导体用掺杂类型的大写字母(如P 、
N)表示,反之用小写字母(如p 、n)等。
掺杂类型相同的称为同型异质结(Nn和Pp) 、相反的称为反
型异质结(Np和Pn) 。
Pn反型异质结
6
• 电子亲和势模型(EAM)或准则
假设条件:
半导体材料参数直到冶金结处都不变;
半导体材料的晶格常数相近或相等;
真空能级连续;
异质结能带图由两种半导体材料的亲和能、电离能或带隙决定,如
对跨骑型异质结
E -
导带底能量差(不同) : c 2 1
E E E
c v g
价带顶能量差(不同) : E -
v 2 1
7
三种异质结类型的电子亲和势差异
注意:电子亲和势模型有
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