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PECVD简介及色差 September 14, 2013 Company Name Dept. Name 目 录  PECVD原理  PECVD作用  PECVD膜厚、折射率设计  PECVD设备简介  PECVD膜厚、折射率影响因素  PECVD与色差 Company Name Dept. Name  PECVD原理  PECVD作用  PECVD膜厚、折射率设计  PECVD设备简介  PECVD膜厚、折射率影响因素  PECVD与色差 Company Name Dept. Name  PECVD原理 PECVD ：Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition 等离子 增强 化学 气相 沉积 等离子体：气体在一定条件下受到高能激发，发生电离，部分外层电子脱 离原子核，形成电子、正离子和中性粒子混合物组成的一种形态，这种形态 就称为等离子态即第四态。 PECVD 等离子反应方程式： SiH  SiH H 4 2 2 SiH NH  SiH NH H 4 3 3 2 2 NH 3 NH H 3SiH 4NH Si N 12H 2 4 3 3 4 2 SiH NH  SiH NH 2 3 3 2 ...Si H SiH ...Si Si...H 2 2 PECVD:借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成 等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期 望的薄膜。 Company Name Dept. Name  PECVD原理 PECVD工艺过程 PECVD:借助微波或射频等使含有薄膜 组成原子的气体电离，在局部形成等离子 体，而等离子化学活性很强，很容易发生 反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 Company Name