关于反应溅射工艺.pdf

关于反应溅射的工艺分析 及speedflo的介绍 Gencoa 工艺工程师 黄汉乐 (Hugo Huang) GENCOA Key Company Facts • GENCOA is a private limited company (Ltd) • 成立于 1995 by Dr Dermot Monaghan • 公司位于英国利物浦 •GENCOA是一个专业做阴极，离子源，以及speedflo 的公司 •GENCOA 目前员工38人 • （是目前全世界专业只做阴极配件最多人的公司） 6 design (Creo 3D CAD) 8 process development simulation 14 assembly test 4 sales tech support (2 Asia based) 其中Hugo是亚洲的工艺/产品工程师 3 administration accounts 3 hardware software (Speedflo) • 全球销售阴极数量达3000多个 • 全球销售speedflo达1000台，在反应溅射控制市场占比95% 以上 GENCOA 2015年新建的工厂 GENCOA新工厂将 2016 3 20 年 月 日落成。 总占地面积为2600平 方米 包括设计部办公室， 现代化组装厂以及 RD实验室 Gencoa offer the following range of products process technology for the thin film industry developed over the last 20 years GENCOA 的产品发展史 写在前面 今天有幸受邀做一个关于反应溅射的工艺介绍，今天所说只是本人对反应溅 射的一些看法而已，只是经验之谈，不保证绝对准确，也非常渴望各位指正 ，共同提高，谢谢！ 本人毕业于东北大学，曾经在深圳JMT工作一年，之后到英国GENCOA 至今工作5年。非常感谢母校东北大学，因为东北大学这个名字，给了我很 多超出我想像的名誉，非常感谢前辈在这个行业里留下的良好声誉。 这些年多得朋友，同事，客户的支持，我从中学习了很多，领悟了很多， 作为一名工艺工程师，我认为我有责任与同行分享以下内容，谢谢！ 非常感谢我的老师，我的同学，我的朋友，我的客户们！ 反应溅射的问题点 平面靶材打火问题 旋转靶材打火问题 此阴极不是GENCOA的 普通3排磁铁的旋转靶设计 AC current “leaks” 70 mm 100 120 mm mm 像这种就是因为旋转时等离子辉光已经受到基片移动而干扰了，而且leaks的 部分代表会有一部分的溅射物沉积到另一个靶管上，这样会大大影响膜层的 质量，并且基片加热会很严重，通常会基片温度到120到150度之间。 GENCOA 5排磁铁的旋转靶设计 但是这种设计就不会对基片加温，也会减少打火，因为两个靶管的等离子体 是完全独立的。上一种情况，通过观察窗口你会看到靶管背部也有辉光，那 就是leaks的那部分，这一个没有leaks的，靶管背部就不会辉光 。 解决靶材打火问题阴极磁场设计理念 另外无论是平面靶还是旋转靶，我们设 计磁场时，都应该让靶材表面