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电镀工艺详述
第一章 电镀概论
1 电镀定义
电镀为电解镀金属法的简称。电镀是将镀件(制品),浸于含有欲镀上金属离子的药水
中并接通阴极,药水的另一端放置适当阳极(可溶性或不可溶性),通以直流电后,镀件的
表面即析出一层金属薄膜的方法。
2 电镀基本五要素
1) 阴极:被镀物,指各种接插件端子。
2) 阳极:若是可溶性阳极,则为欲镀金属。若是不可溶性阳极,大部分为贵金属(白
金,氧化铱)。
3) 电镀药水:含有欲镀金属离子的电镀药水。
4) 电镀槽:可承受、储存电镀药水的槽体,一般考虑强度,耐蚀,耐温等因素。
5) 整流器:提供直流电源的设备。
3 电镀目的
1) 镀铜:打底用,增进电镀层附着能力,及抗蚀能力。
2) 镀镍:打底用,增进抗蚀能力。
3) 镀金:改善导电接触阻抗,增进信号传输。
4) 镀钯镍:改善导电接触阻抗,增进信号传输,耐磨性比金佳。
5) 镀锡:增进焊接能力,提升基材抗氧化能力。
4 电镀流程(一般铜合金底材如下,未含水洗工程)
1) 除油:通常同时使用碱性溶液除油或者电解除油。
2) 活化:使用稀硫酸或相关的混合酸。
3) 镀镍:使用硫酸镍系及氨基磺酸镍系。
4) 镀钯镍:目前皆为氨系。
5) 镀金:有金钴,金镍,金铁,一般使用金钴系最多。
6) 镀锡:硫酸亚锡体系、甲基磺酸体系。
7) 干燥:使用热风循环烘干。
8) 封孔处理:采用溶液浸泡,提升抗氧化能力,有使用水溶型及溶剂型两种。
5 电镀药水组成
1) 纯水:总不纯物至少要低于5ppm。
2) 金属盐:提供欲镀金属离子。
3) 阳极解离助剂:增进及平衡阳极解离速率。
4) 导电盐:增进药水导电度。
5) 添加剂:有缓冲剂、光泽剂、平滑剂、柔软剂、湿润剂、抑制剂等等。一般起到均
匀镀层,提升亮度、结合力的效果。
6 电镀条件
1) 电流密度:单位电镀面积下所承受的电流,通常电流密度越高膜厚越厚,但是过高
时镀层会烧焦粗燥。
2) 电镀位置:镀件在药水中位置,与阳极相对位置,会影响膜厚分布。
3) 搅拌状况:搅拌效果越好,电镀效率越高,有空气,水流,阴极摆动等搅拌方式。
4) 电流波形:通常滤波度越好,镀层组织越均一。
5) 镀液温度:镀金约(50~60 )℃,镀镍约(50~60 )℃,镀锡铅约(18~22)℃,镀
钯镍约(45~55 )℃。
6) 镀液PH 值:镀金约4.0~4.8 ,镀镍约3.8~4.4,镀钯镍约8.0~8.5,
7) 镀液比重:基本上比重低,药水导电差,电镀效率差。
7 镀层检验
1) 外观检验:目视法,显微镜(40 倍) 。
2) 膜厚测试:X-RAY 荧光膜厚仪。
3) 致密性实验:折弯法,胶带法或两者并用。
4) 焊锡实验:沾锡法,一般95% 以上沾锡面积均匀平滑即可。
5) 水蒸气老化实验:测试是否变色或腐蚀斑点,及后续的可焊性。
6) 抗变色实验:使用烤箱烘烤法,是否变色或者脱皮。
7) 耐腐蚀实验:盐水喷雾实验、硝酸实验、二氧化硫实验、硫化氢实验等。
第二章 电流密度
1 电流密度的定义
即电极单位面积所通过的电流,一般以A/dm2表示。电流密度在电镀操作上是很重要
的参数,如镀层的性质,镀层的分布,电流效率等,都与此有很大的关系。电流密度有分
为阳极电流密度和阴极电流密度。一般计算阴极电流密度比较多。
2 电流密度的计算
电流密度=电镀槽通电的安培数/ 电镀面积。
上述电流密度为平均电流密度。
3 电流密度与电镀面积
相同(或同成分)的电流下,电镀面积越小,其电流密度越大,电镀面积越大,其电流密
度越小。
4 电流密度与阴阳极距
由于镀件外表结构不一规则状,在共同的电流下,镀件离阳极距离较近的部位称为局部
高电流区,离阳极距离较远的部位称为局部低电流区。
5 电流密度与哈氏槽试验
每一种电镀药水都有一定的电流密度操作范围,大致
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