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第12章--12.2 气相沉积技术
第十二章 先进表面工程技术
12.1 材料表面高能束改性处理技术
(激光束、电子束、离子束)
12.2 气相沉积技术
(物理、化学)
12.3 材料表面复合处理技术
12.4 其他先进表面工程技术
(表面微细加工技术、纳米表面工程技术、
多弧离子镀技术、超硬涂层表面技术、摩
擦搅拌表面改性技术)
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12.2 气相沉积技术
1. 物理气相沉积
1.1 真空蒸发镀膜
1.2 溅射镀膜
1.3 离子镀膜
2. 化学气相沉积
2.1 化学气相沉积的一般原理
2.2 化学气相沉积技术
2.3 化学气相沉积技术的应用
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物理气相沉积(PVD)
膜 镀 发 蒸 空 真 膜 镀 射 溅 膜 镀 子 离
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真空蒸发镀膜原理及其基本过程
真空表面沉积技术起始于真空蒸发镀膜,其基本
过程是:
•在真空容器中将蒸镀材料(金属或非金属)加
热,当达到适当温度后,便有大量的原子和分子
离开蒸镀材料的表面进入气相。
•因为容器内气压足够低,这些原子或分子几乎
不经碰撞地在空间内飞散,
•当到达表面温度相对低的被镀工件表面时,便
凝结而形成薄膜。
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程 过 本 基 其 及 理 原 膜 镀 发 蒸 空 真
9 1
蒸发成膜系统如右图
所示。 8
主要部分有: 2
真空容器( 提供蒸发所需
的真空环境) ,
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