第12章--12.2 气相沉积技术.pdf

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第12章--12.2 气相沉积技术

第十二章 先进表面工程技术 12.1 材料表面高能束改性处理技术 (激光束、电子束、离子束) 12.2 气相沉积技术 (物理、化学) 12.3 材料表面复合处理技术 12.4 其他先进表面工程技术 (表面微细加工技术、纳米表面工程技术、 多弧离子镀技术、超硬涂层表面技术、摩 擦搅拌表面改性技术) 17:49 2013-12-02 1/71 X.Z.LinX.Z.Lin 12.2 气相沉积技术 1. 物理气相沉积 1.1 真空蒸发镀膜 1.2 溅射镀膜 1.3 离子镀膜 2. 化学气相沉积 2.1 化学气相沉积的一般原理 2.2 化学气相沉积技术 2.3 化学气相沉积技术的应用 17:49 2013-12-02 2/71 X.Z.LinX.Z.Lin 17:49 2013-12-02 3/71 X.Z.LinX.Z.Lin 17:49 2013-12-02 4/71 X.Z.LinX.Z.Lin 物理气相沉积(PVD) 膜 镀 发 蒸 空 真 膜 镀 射 溅 膜 镀 子 离 17:49 2013-12-02 5/71 X.Z.LinX.Z.Lin 真空蒸发镀膜原理及其基本过程 真空表面沉积技术起始于真空蒸发镀膜,其基本 过程是: •在真空容器中将蒸镀材料(金属或非金属)加 热,当达到适当温度后,便有大量的原子和分子 离开蒸镀材料的表面进入气相。 •因为容器内气压足够低,这些原子或分子几乎 不经碰撞地在空间内飞散, •当到达表面温度相对低的被镀工件表面时,便 凝结而形成薄膜。 17:49 2013-12-02 6/71 X.Z.LinX.Z.Lin 程 过 本 基 其 及 理 原 膜 镀 发 蒸 空 真 9 1 蒸发成膜系统如右图 所示。 8 主要部分有: 2 真空容器( 提供蒸发所需 的真空环境) ,

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