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北京同步辐射装置 X射线成像技术介绍 黄万霞 2013-11-21 北京正负电子对撞机 一机两用： 对撞模式，研究高能物理，6个月 同步模式，3个月  环周长：240m  能量：2.5GeV 北京同步辐射装置  14条光束线和15个实验站 4W1A光束线（两种模式） 1. 纳米分辨三维成像 成像视场10um60um 分辨率50nm100nm 单色聚焦光束模式 2. X射线形貌术 成像视场10mm内可调 分辨率35um 3. 相位衬度三维成像 成像视场约10mm可调 分辨率315um 白光模式 一、X射线形貌术—原理 底片 光强减弱 光强增强 衍射光 入射光 晶格 衍射成像: 晶格缺陷  衍射异常  光强分布改变  产生衬度 点缺陷（微缺陷）、位错、层错、晶界、畴壁、亚晶粒、杂质分凝、裂缝等 X射线形貌术—实验方法 同步辐射白光形貌术（透射） 样品 狭缝 白光X射线 成像探测器 实验原理：当一束同步辐射白光X射线束入射到晶体样品上时，根据布 喇格衍射公式 2dhkl sin  n （n＝1,2,3……），晶体中不同指数面 各自分别选择相应波长的X射线，衍射形成相应的劳厄衍射斑（图5.8- 1），每个劳厄斑点就代表了相应衍射面的信息。 X射线形貌术—样品  研究对象：晶体（单晶体）  单晶样品先经过切割、磨抛成薄片状  样品尺寸：通常5mm左右  样品厚度：通常几百微米  吸收衰减公式 I I et