XRD原理简述及粉末应用.pdf

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XRD原理简述及粉末应用

X射线衍射的原理及应用简述 X射线的性质 • 常用X射线波长: 0.1 ~10 埃 (0.01 ~ 100 埃) • 不反射,几乎不折射 (折射率近乎于1) • 波长与晶体中原子间距基本相同, 因而可以产生衍射,用X 射线研究晶体内部结构 X射线的产生 • X射线管中的高速电子和阳极 靶碰撞, 产生极大的负加速度, 辐射电磁波 • 电子数量极大,到达阳极上的 时间和条件不可能相同,辐射 的电磁波具有连续的各种波长, Current 形成一个连续X射线谱 (mA) Voltage (kV) X射线的产生 随着光管加载电压增高: • 各种波长相对强度一致增高, • 最高强度射线波长逐渐变短 • 短波极限值逐渐变小 X射线的产生 • 光管电压增高到某个值时, 电子有足够能量打掉原子 的内层电子 • L3,L2两个支壳层的电子 跃迁到K壳层时,产生Kα1 和Kα2两个波长的X射线 • M壳层跃迁K壳层,则产生 Kβ波长的X射线 X射线的产生 • 特征波长X射线的相对强度, 随着光管电压的提高而增加 • I=K i (V-V )n (n=1.5~1.7 ) k V : K系波长X射线的激发电压 k V: 工作电压; i: 光管电流 • 特征波长与连续波长X射线 强度的比值, 其管电压为Vk 的3~5倍时为最大. X射线的产生 各种靶材元素的K系辐射的激发电压及适宜的工作电压 靶元素 原子序数 K Vk KV (最佳工作电压) 元素(被强吸收及散射的元素) Cr 24 2.2909 5. 98 20-25 Ti,Sc,Ca

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