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真空镀膜之基础与应用
輔仁大學物理系/所
啟動產業人力扎根計畫-真空鍍膜技術學程
｢薄膜應用專題｣系列演講
真空鍍膜之基礎與應用
歐特威科技股份有限公司
湛本岱
總綱
1. 構成真空鍍膜的基本要素
2. 真空鍍膜技術與設備的種類
3. 真空鍍膜技術與應用 -濺鍍
4. 結論
1.構成真空鍍膜的基本要素
真空腔體 基材
真空幫浦 鍍材
自動控制 膜層設計
真空鍍膜
感測元件 鍍膜技術
設備 製程
品質檢測 檢測 環境檢測
1.1設備
• 真空腔體
• 真空幫浦
•自動控制
•感測元件
1.2 製程
• 基材
– 玻璃、塑膠、晶圓、金屬等
• 鍍材
– 金屬、介電質、半導體等
• 膜層設計
– 考慮適用的鍍膜材料、膜的
功能
• 鍍膜技術
– 考慮尺寸、基材、鍍材、功
能與適用的鍍膜方式
1.3檢測
•品質檢測
– 光學特性
– 機械特性
–電磁性
• 環境檢測
– 耐候性
–化學特性
2. 真空鍍膜技術與設備的種類
技術種類 設備種類
A. 物理氣相鍍膜(PVD) ‧批次(batch)型態
‧ 熱蒸著 ‧連續(inline)型態
‧ 濺鍍 ‧集合(cluster)型態
‧ 多弧離子鍍膜 ‧捲膜(web)型態
B. 化學氣相鍍膜(CVD)
‧ PECVD電漿輔助CVD
‧ ECR/ICP高密度電漿CVD
2.1.1 熱蒸著：鎢舟(鎢絲)型
工作壓力:
待鍍物 待鍍物
-4 -6
10 ~10 torr
氣體噴嘴 氣體噴嘴
鍍材
鎢舟 鎢絲
P P
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