模拟集成电路设计ch2 MOS器件物理基础.pdf

  1. 1、本文档共85页,可阅读全部内容。
  2. 2、有哪些信誉好的足球投注网站(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
模拟集成电路设计ch2 MOS器件物理基础

Design of Analog CMOS Integrated Circuits 第2章 MOS器件物理基础 主讲:魏广芬 职称:副教授 山东工商学院信电学院 Ch. 2 # 1 Design of Analog CMOS Integrated Circuits 主要内容 2.1 基本概念 2.2 MOS的I/V特性 2.3 二级效应 2.4 MOS器件模型 Ch. 2 # 2 Design of Analog CMOS Integrated Circuits 2.1.1 MOSFET开关 Drain VG ?器件导通 器件导通或断开时源和漏间的 Gate 电阻多大? 该电阻和VG ,VDS 的关系怎样? Source N型MOSFET 栅(G ),源(S),漏(D )。对称器件 作为开关 V 高电平,源-漏端通 G V 低电平,源-漏端开 G Ch. 2 # 3 Design of Analog CMOS Integrated Circuits 2.1.2 MOSFET的结构 栅宽 Ch. 2 # 4 Design of Analog CMOS Integrated Circuits 2.1.2 MOSFET的结构 氧化层厚度 t OX Ldrawn :沟道总长度 LD :横向扩散长度 Leff :沟道有效长度,Leff =Ldrawn -2 LD 衬底(bulk、body ) 氧化层上面的多晶硅区,长Ldrawn ,宽W Leff和tOX对MOS 电路性能起着非常重要的作用 Ch. 2 # 5 Design of Analog CMOS Integrated Circuits MOS管正常工作的基本条件 寄生二极管 B MOSFET是四端器件!!! MOS管正常工作的基本条件是: 所有衬源(B、S)、衬漏 (B、D )pn结必须反偏(或者零偏)! Ch. 2 # 6 Design of Analog CMOS Integra

文档评论(0)

yaocen + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档