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模拟集成电路设计ch2 MOS器件物理基础
Design of Analog CMOS
Integrated Circuits
第2章
MOS器件物理基础
主讲:魏广芬
职称:副教授
山东工商学院信电学院
Ch. 2 # 1
Design of Analog CMOS Integrated Circuits
主要内容
2.1 基本概念
2.2 MOS的I/V特性
2.3 二级效应
2.4 MOS器件模型
Ch. 2 # 2
Design of Analog CMOS Integrated Circuits
2.1.1 MOSFET开关
Drain VG ?器件导通
器件导通或断开时源和漏间的
Gate 电阻多大?
该电阻和VG ,VDS 的关系怎样?
Source
N型MOSFET
栅(G ),源(S),漏(D )。对称器件
作为开关
V 高电平,源-漏端通
G
V 低电平,源-漏端开
G
Ch. 2 # 3
Design of Analog CMOS Integrated Circuits
2.1.2 MOSFET的结构
栅宽
Ch. 2 # 4
Design of Analog CMOS Integrated Circuits
2.1.2 MOSFET的结构
氧化层厚度
t
OX
Ldrawn :沟道总长度
LD :横向扩散长度
Leff :沟道有效长度,Leff =Ldrawn -2 LD 衬底(bulk、body )
氧化层上面的多晶硅区,长Ldrawn ,宽W
Leff和tOX对MOS 电路性能起着非常重要的作用
Ch. 2 # 5
Design of Analog CMOS Integrated Circuits
MOS管正常工作的基本条件
寄生二极管
B
MOSFET是四端器件!!!
MOS管正常工作的基本条件是: 所有衬源(B、S)、衬漏
(B、D )pn结必须反偏(或者零偏)!
Ch. 2 # 6
Design of Analog CMOS Integra
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