大面积光刻胶线棒涂布工艺研究-华南师范大学学报.PDF

华南师范大学学报（自然科学版） ２０１５，４７（２）：８４－８９ ＪｏｕｒｎａｌｏｆＳｏｕｔｈＣｈｉｎａＮｏｒｍａｌＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ（ＮａｔｕｒａｌＳｃｉｅｎｃｅＥｄｉｔｉｏｎ） ｄｏｉ：１０．６０５４／ｊ．ｊｓｃｎｕｎ．２０１４．１２．０１５ 大面积光刻胶线棒涂布工艺研究 韦必明，金名亮，吴　昊，窦盈莹，周国富，水玲玲 （华南师范大学华南先进光电子研究院，彩色动态电子纸显示技术研究所，广州５１０００６） 摘要：介绍了一种在大面积基材上涂布高粘度光刻胶的线棒涂布法．主要针对涂膜厚度与均匀性进行研究，结果表 明，膜厚随着光刻胶粘度和涂布棒尺寸的增大而变厚，涂布速度在某一范围内对膜厚无影响．线棒涂布机设备中所 加垫板的硬度直接影响涂膜的均匀性，硬度小的垫板可获得更均匀的涂膜，而垫板高度在某一范围内对膜厚无影 响．与常用旋涂法相比，线棒涂布法具有操作简单、节省材料和可大面积涂布等优点． 关键词：线棒涂布法；大面积涂布；高粘度；光刻胶；涂布工艺 中图分类号：ＴＱ５８６．３　　　文献标志码：Ａ　　　文章编号：１０００－５４６３（２０１５）０２－００８４－０６ ＳｔｕｄｙｏｎＢａｒＣｏａｔｉｎｇＰｒｏｃｅｓｓｆｏｒＬａｒｇｅＡｒｅａＰｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔＣｏａｔｉｎｇ  ＷｅｉＢｉｍｉｎｇ，ＪｉｎＭｉｎｇｌｉａｎｇ，ＷｕＨａｏ，ＤｏｕＹｉｎｇｙｉｎｇ，ＺｈｏｕＧｕｏｆｕ，ＳｈｕｉＬｉｎｇｌｉｎｇ （ＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃＰａｐｅｒＤｉｓｐｌａｙｓ，ＳｏｕｔｈＣｈｉｎａＡｃａｄｅｍｙｏｆＡｄｖａｎｃｅｄＯｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ，ＳｏｕｔｈＣｈｉｎａＮｏｒｍａｌＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｇｕａｎｇｚｈｏｕ５１０００６，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ａｄｉｒｅｃｔｂａｒｃｏａｔｉｎｇｐｒｏｃｅｓｓｏｆｈｉｇｈｖｉｓｃｏｓｉｔｙｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔｏｎｌａｒｇｅａｒｅａｓｕｂｓｔｒａｔｅｆｏｒｍｉｃｒｏｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ ｉｓｒｅｐｏｒｔｅｄｉｎｔｈｉｓｐａｐｅｒ．Ｔｈｅｉｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆｃｏａｔｉｎｇｐａｒａｍｅｔｅｒｓｏｎｔｈｅｔｈｉｃｋｎｅｓｓａｎｄｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙｏｆｔｈｅｆｉｌｍｌａｙｅｒｗａｓ ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄ．Ｉｔｉｓｓｈｏｗｎｔｈａｔｔｈｅｆｉｌｍｔｈｉｃｋｎｅｓｓｉｎｃｒｅａｓｅｓｗｉｔｈａｎｉｎｃｒｅａｓｅｉｎｔｈｅｖｉｓｃｏｓｉｔｙｏｆｔｈｅｐｏｌｙｍｅｒａｎｄｔｈｅ ｓｉｚｅｏｆｔｈｅｃｏａｔｉｎｇｂａｒｓ．Ｗｅｈａｖｅｐｒｏｐｏｓｅｄａｎｄｖｅｒｉｆｉｅｄａｍｅｔｈｏｄｔｏｉｍｐｒｏｖｅｔｈｅｆｉｌｍｈｏｍｏｇｅｎｅｉｔｙｂａｓｅｄｏｎｉｎｓｅｒ ｔｉｎｇａｓｕｐｐｏｒｔｉｎｇｓｕｂｓｔｒａｔｅｕｎｄｅｒｔｈｅｃｏａｔｉｎｇｓｕｂｓｔｒａｔｅ．Ｗｅｆｏｕｎｄｔｈａｔｍｏｒｅｈｏｍｏｇｅｎｏｕｓｆｉｌｍｃａｎｂｅｏｂｔａｉｎｅｄｂｙｕ ｓｉｎｇｓｏｆｔｅｒｓｕｐｐｏｒｔｉｎｇｍａｔｅｒｉａｌｓｒａｔｈｅｒｔｈａｎｈａｒｄｓｕｐｐｏｒｔｉｎｇｍａｔｅｒｉａｌｓ，ａｎｄｔｈｅｆｉｌｍｔｈｉｃｋｎｅｓｓｂａｓｉｃａｌｌｙｄｏｅｓｎｔ ｃｈａｎｇｅｗｉｔｈｔｈｅｃｏａｔｉｎｇｓｐｅｅｄｉｎａｗｉｄｅｒａｎｇｅｏｆｃｏａｔｉｎｇｓｐｅｅｄｂｙｕｓｉｎｇｓｏｆｔｅｒｓｕｐｐｏｒｔｉｎｇｍａｔｅｒｉａｌｓ．Ｃｏｍｐａｒｅｄｗｉｔｈ ｓｐｉｎｃｏａｔｉｎｇ，ｂａｒｃｏａｔｉｎｇｉｓａｍｅｔｈｏｄｆｏｒｓｉｍｐｌｅ，ｆａｓｔ，ｍａｔｅｒｉａｌｓｓａｖｉｎｇ，ａｎｄｌａｒｇｅｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｃｏａｔｉｎｇ． Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｂａｒｃｏａｔｉｎｇ；ｌａｒｇｅａｒｅａｃｏａｔｉｎｇ；ｈｉｇｈｖｉｓｃｏｓｉｔｙ；ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ；ｃｏａｔｉｎｇｐｒｏｃｅｓｓ 　　薄膜在材料应用中非常关键，尤其在显示领 大面积的基材上进行涂膜，高粘度的光刻胶也比较 ［１］ ［２－３］ ［４］ 域 、微机械系统（ＭＥＭＳ） 、ＩＣ集成电路 等