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单晶硅片的低温抛光技术光学精密工程
第6卷 第5期 光学 精密工程 . 6, . 5
V o l N o
1998年10月 O P T IC S AN D PR EC IS ION EN G IN EER IN G O ctob er , 1998
单晶硅片的低温抛光技术
韩荣久 孙恒德 徐德全
( 中科院长春光学精密机械研究所 长春 130022)
张 云 王立江
( 吉林工业大学机械工程学院 长春 130022)
摘要 介绍了一种光学材料抛光新技术——低温抛光技术。首先把抛光液冷冻成
低温抛光模层, 并对单晶硅片做抛光实验, 实验结果表明这是一种很好的光学材料抛光
方法。
关键词 低温抛光 抛光模层 抛光液
1 前 言
近年来科学技术的发展, 出现了许多硬脆性难加工材料, 例如单晶硅及各种功能性材料、
白宝石、特种光学玻璃等。这些材料的出现使近代刚刚趋于成熟的单点金刚石超精密切削技术
也变得无能为力。人们在探索新的加工方法的同时不能不还去求助传统的光学工艺方法——
散粒磨料抛光技术, 尽管效率低, 总还能得到所需的超光滑光学表面。近年来出现的金刚石丸
片式固着磨光抛光方法在效率上有很大的提高, 但加工精度却达不到超光滑表面的要求。而现
代科学技术的发展对表面质量的要求愈来愈苛刻, 大尺寸、超薄形、粗糙度要求达到 量级, 面
型要求达到 10~ 20, 令人望而生畏。科学上的不断探索, 新加工方法的不断涌现, 使这种
高精度要求的超精密加工已经成为可能。本文提出一种新的光学抛光方法——低温抛光法, 并
做了一些实验, 取得一定的进展和效果。
提高加工精度、提高加工效率是机械加工和光学加工, 特别是应付不断涌现的难加工材料
的超精密加工, 是我们无法回避的挑战。为此, 人们把不同的物理过程、化学过程应用到加工工
艺方法的研究中, 创造出许多新的工艺方法。在单点金刚石超精密切削的研究中, 有人引入了
低温切削技术, 出现了许多新现象, 并可超精密切削黑色金属。本文还是从改变加工温度的角
应用光学国家重点实验室基金资助项 目
收稿 日期: 1998- 06- 09
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