N2O为氧源金属有机化学气相沉积生长ZnO薄膜的光学性能研究.pdfVIP

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2017-10-25 发布于北京
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N2O为氧源金属有机化学气相沉积生长ZnO薄膜的光学性能研究.pdf

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N2O为氧源金属有机化学气相沉积生长ZnO薄膜的光学性能研究.pdf

第26卷第7期光学学报 V01．26，No．7 2006年7月 ACTAOPTICASINICA July，2006 文章编号：0253—2239(2006)07—1112—3 N2 光学性能研究* 苏宏波戴江南王立蒲勇方文卿江风益++ (南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心，南昌330047) 摘要：采用常压金属有机化学气相沉积(AP 350”，表明ZnO薄膜结晶性能良好；低温10K光致发光谱结果表明，Nz0为氧源生长的ZnO膜和Hz0为氧源生长的ZnO膜的发光特性明显不同，没有观察到与氢有关的中性施主束缚激子对应的3．331eV双电子卫星峰 (TES)。这一结果表明，用N：0为氧源生长的ZnO薄膜中不易引进氢杂质。关键词：薄膜光学；双电子卫星峰；光致发光；常压有机金属化学气相沉积；ZnO；NzO 中图分类号：TN304．2+2文献标识码：A Grown Optical ofZn0ThinFilm byAtmospheric Properties Pressure-MetalChemical Using Organic VaporDeposition 0as Precursor N2 Oxygen Su Dai Li Pu JiangFengyi HongboJiangnanWang YongFangWenqing (Education ResearchCenterLuminescenceMaterialsandDevices， MinistryEngineering for 330047) NanchangUniversity，Nanchang were chemical ZnOfilms on substrate Abstract：High—qualitygrownc-A1203 byatmosphericpressure-metalorganic a andOwereusedastheZnand0 vapordeposition methodof H2 technique，using three—stepgrowth．DEZn inboththelowand buffersand0wasusedas0 inthemainZnO N2 N2 precursor layer． precursors hightemperature Thefullwidthathalfmaximum(FWHM)oftheinclined oftheZnOfilm symmetricalplane(10—12)w-scanby double diffractionmetho