SrBi4Ti4O15铁电薄膜的制备工艺及薄膜生长机理研究.pdfVIP

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SrBi4Ti4O15铁电薄膜的制备工艺及薄膜生长机理研究.pdf

第 卷第 期 年 月 物 理 学 报 (( % $$) % , , , \8= 0(( 68 0% D+E: $$) ( ) !$$$H%4$ 3 $$) 3 (( $% 3 !)H$5 OY.O 1VZ*[YO *[6[YO !$$) Y:-9 0 1:M? 0 *8E 0 !#$ $ ’ 铁电薄膜的制备工艺 % % () 及薄膜生长机理研究! )) ) ) 黄 平! # 徐廷献 崔彩娥! !)(太原理工大学理学院,太原 $%$$ ) )(天津大学材料学院,先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室,天津 %$$$’ ,) ( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿) $$( ( ) $$( ’ ) 以氯化锶,硝酸铋和钛酸丁酯为原料,柠檬酸为络合剂,乙二醇为交联剂,无水乙醇为钛酸丁酯的溶剂,盐酸为 硝酸铋的溶剂,去离子水为氯化锶的溶剂,配制了稳定的 ( )前驱液 采用溶胶凝胶工艺,在 *+,- .- / *,.- 0 12 3 .- 3 !( *-/ 基片上制备了 轴取向增强的 铁电薄膜 研究了一次性晶化快速退火工艺、两层晶化快速退火工艺、 3 *- ! *,.- 0 逐层晶化快速退火工艺以及成膜次数对薄膜结晶性、微观结构和生长行为的影响 实验结果表明,逐层快速退火工 0 艺可有效抑制焦绿石相的形成;随着涂覆次数的增加,薄膜的结晶性变好;由于 *,.- 晶体生长的各向异性及单层膜 厚对晶体沿( )方向生长的限制,随着涂覆次数的增加, 薄膜( )峰和( )峰的强度逐渐增大,而( )峰 !!4 *,.- !!4 $$ $$ 的强度反而略有减小,从而使 ( ) ( ),( ) ( ),( ) ( )逐渐增大 # $$ $ # !!4 # $$ $ # $$!$ # !!4 $ # $$!$ % 关键词:铁电薄膜,钛酸锶铋,逐层快速退火工艺,生长行为 : , , *+,, ’’5$ )5(( 5!!( 钙钛矿结构铁电薄膜,具有较好的抗疲劳特性(经 !$!! 次极化反转 几乎无变化),与

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