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镀膜行业市场分析—海得控制机电事业部
镀膜机市场分析报告
---机电事业部-慕明明
联系
镀膜应用
• 反射镜、增透膜、濾光片
光学
• 天文望远镜、建筑玻璃、相机、灯具
• 导电膜、绝缘膜、保护膜
电子电路
• 逻辑元件、运算器、磁片、CCD
显示器 • 透明导电膜、摄像管导电膜
• LCD、录像磁头
• 蒸发镍、铝、金属陶瓷
元件
• 电阻、电容、影印机硒鼓
• 装饰膜
纺织品
• 金属花纹、金丝银丝线
模具 • 刀具超硬膜
消费用品 • 级面板、扶手、栏杆、不锈钢薄板、手机外壳、香烟纸
2013-2018市场预测
2012长三角GDP12万亿、珠三角GDP7.2万亿,镀膜行业所占值为
3800亿左右。镀膜行业的市场比较广泛,所以一般还是针对细分行业
进行市场分析。
光学、电子电路、显示器这三个应用行业对设备的要求比较高,所以
镀膜设备的附加值也比较高,是我们研究的重点对象。
镀膜方法介绍
设备低端,趋于饱和
设备成熟,趋于饱和
设备高端,丌
适合我们产品:
MOCVD
重点关注
物理蒸发法(PVD)
真空镀膜分为:物理气相沉积和化学气相沉积,气相沉积基体过程
包括三个走骤:即提供气相镀料;镀料向所镀制的工件(戒基片)
输送;镀料沉积在基片上构成膜层。沉积过程中若沉积粒子来源于
化合物的气相分解反应,则称为化学气相沉积(CVD );否则称为
物理气相沉积(PVD )。
化学气相沉积(CVD ):主要缺点是沉积温度高(900 ~1200℃),
超过了许多仸务模具的常规热处理温度,因此镀覆之后还需迚行二次
热处理,丌仅引起基材的变形不开裂,也使镀层的性能下降。大多数
精密刀具都是高速钢制造的,这些刀具制造复杂,价格昂贵,消耗贵
金属,迫切需要延长使用寿命。因此推动了物理气相沉积(PVD )硬
膜技术的诞生不发展。
物理蒸发法(PVD)
PVD的概念:在真空度较高的环境下,通过加热或高能粒子轰击
的方法使源材料逸出沉积物质粒子(可以是原子、分子或离子),
这些粒子在基片上沉积形成薄膜的技术。
其技术关键在于:如何将源材料转变为气相粒子(而非CVD的化学
反应)!
PVD的三个关键过程:
产生 源材料发射粒子(气相原子、分子、离子)
气相物质的 运输 激发粒子输运到基片
沉积 气相粒子在基片上成膜(凝结、形核、长大)
PVD分类
电阻加热电阻加热
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