中科大九系研究方向.ppt

研究方向郑津津教授 答辩内容 个人简介 研究工作介绍 研究论文 研究基金 实验室介绍 人才队伍介绍 个人简介 工作单位： 中国科学技术大学 精密机械与精密仪器系 研究方向： 计算机辅助设计、仿真 现任岗位： 教授、博导 到岗日期： 2004年1月 择优支持日期： 2006年9月 年在岗时间： 12个月 研究工作介绍 计算机辅助设计、仿真领域 MEMS微结构紫外光刻仿真 曲面造型研究 太阳帆航天器仿真研究 研究工作介绍 计算机辅助设计、仿真领域 MEMS微结构紫外光刻仿真 曲面造型研究 太阳帆航天器仿真研究 MEMS微结构紫外光刻仿真 接近式光刻计算机模拟 提出了几种高效的计算在不同掩模图形下光强在光刻胶表面分布的算法 特点 照明光源、掩模与光刻胶之间的间隙、 光刻胶的厚度都得到了较为准确的处理和考虑 （ICIA2007；中国科技大学学报2007 ） 接近式光刻计算机模拟 模拟模型建立 照明系统示意图 基于标量衍射理论的点光源阵列衍射光场非相干叠加模型 对每束光采用基尔霍夫衍射理论 光刻胶表面X0Y0内一点Q(x0,y0)的复振幅分布 第k个点光源 Q点的衍射光强计算为 将这N个衍射光强值直接叠加，得到Q点的光强 假设在掩模面的光强分布是均匀为1，每束光的相对光强为1/N 半径2μm，45o角的扇形在不同间隙下的模拟结果 2 μm线宽的十字形的模拟结果 齿轮模型，参数：齿数8，分度圆直径16μm，齿顶圆直径20μm MEMS微结构紫外光刻仿真 建立了误差补偿的算法 （ICIA2008； Optics and Precision Engineering 2007 ） 建立评价区域和评价函数 1.外拐角评价区域 主评价函数 辅助评价函数 MEMS微结构紫外光刻仿真 2.内拐角评价区域 主评价函数 辅助评价函数 3.边评价区域 主评价函数 校正策略 拐角校正示意图 边校正示意图 校正模拟结果 Rectangle model3μm*8μm,THD=0.375,depth=10μm MEMS微结构紫外光刻仿真 把光强分布的Dill模型推广到负胶（su－8），建立了实用的光强分布负胶模型 (ICIA 2007) 负胶曝光模型 h(z,t)：光致酸的归一化浓度 g(z,t)：光引发剂的归一化浓度 m(z,t)：单体交联位的浓度，用来表示环氧树脂单体交联的程度 研究工作介绍 MEMS微结构紫外光刻仿真 曲面造型研究 太阳帆航天器仿真研究 曲面造型研究 实用的n-边形曲面参数化 （The Visual Computer2005，JICS 2006） 研究生课程内容 School of Computer Science, Univ. of Waterloo http://www.student.cs.uwaterloo.ca/~cs779/Gallery/ 浙江大学 /cagd/Seminar/2006_SpringSummer /2006_Spring_Master_CWY.ppt Paramertrization of n-sided the surface Zheng-Ball surface patch Spline surface Two adjacent patches joined with C1 continuity. They share common boundary points (?). control vectors (?→) and(· · · →) Irregular closed mesh Closed irregular mesh and the resulting geometric model. Patch structure: Patches on the corners are non-quadrilateral Zheng–Ball patches; the others are bi-quadratic Bezier patches 医学图像轮廓