离子束刻蚀技术.ppt

离子束刻蚀应用 报告人：孟伟 什么是离子？什么是离子束？ 离子：带电荷的原子或分子。带正电荷的离子称“正离子”，带负电荷的离子称“负离子”。 离子束：以近似一致的速度沿几乎同一方向运动的一群离子。 离子束刻蚀（IBE） 离子束刻蚀是利用具有一定能量的离子轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的. 把Ar、Kr或Xe之类惰性气体充入离子源放电室并使其电离形成 等离子体，然后由栅极将离子呈 束状引出并加速，具有一定能量 的离子束进入工作室，射向固体 表面撞击固体表面原子，使材料 原子发生溅射，达到刻蚀目的， 属纯物理过程。 IBE刻蚀特点 方向性好，各向异性，陡直度高 分辨率高，可达到0.01um 不受刻蚀材料限制（金属和化合物，无机物和有机物，绝缘体和半导体均可） 刻蚀过程中可改变离子束入射角θ来控制图形 轮廓 离子束刻蚀机 离子束刻蚀应用 CYB石油专用传感器 应用先进的离子束溅射和离子束刻蚀工艺,将应变电桥直接制作在金属测压膜片上。由于不用传统的胶粘工艺,显著改善了应变式传感器的长期稳定性及抗蠕变特性,使产品使用的温度范围大为扩展。由于没有活动部件,抗振动和抗冲的能力很强,可用于恶劣的环境。 由于离子束刻蚀对材料无选择性，对于那些无法或者难以通过化学研磨、电介研磨难以减薄的材料，可以的通过离子束来进行减薄。另外，由于离子束能逐层剥离原子层，所以具有的微分析样品能力，并且可以用来进行精密加工。 ?凹面闪耀全息光栅（广泛应有于各种分析仪器、光通信、生物、 医疗器械等领域。） 采用离子束刻蚀法进行 闪耀加工，因此，可容易地 制造出具有各种闪耀角 （闪耀波长）的闪耀全息光栅 Thank you！ * *