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包含方法特征产品权利要求新颖性/创造性答复 　　关于包含方法特征的产品权利要求，审查指南（2010版）第二部分第二章第3.1.1节规定了“通常情况下，在确定权利要求的保护范围时，权利要求中的所有特征均应当予以考虑，而每一个特征的实际限定作用应当最终体现在该权利要求所要求保护的主题上。例如，当产品权利要求中的一个或多个技术特征无法用结构特征并且也不能用参数特征予以清楚地表征时，允许借助于方法特征表征。但是，方法特征表征的产品权利要求的保护主题仍然是产品，其实际的限定作用取决于对所要求保护的产品本身带来何种影响”。 如何看待“方法限定的产品权利要求”中的方法特征 如何看待“方法限定的产品权利要求”（product-by-process claim）中的方法特征，以及如何确定这种权利要求的保护范围，一直存在争议，不同国家和组织的观点和做法也不尽相同。其中，主要存在两种观点：第一种观点认为，无论采用什么制备方法，只要所获得的产品相同，就落入产品权利要求的保护范围之内，这种观点被称为“产品限定法”；第二种观点认为，专利权的保护范围应当依据权利要求书籍载的内容来确定，而方法特征构成了对所述产品的限定，这种观点被称为“全部限定法”，也就是说，即使在后的产品和在前的产品相同，但由于制备方法不同，也不会落入在前权利要求的保护范围。这两种观点在美国的判例中表现得尤为突出，其中最著名的是1991年的Stripes Clinicv.Genetech Inc.案（第一种观点）以及1992年判决的Atlantic Thermoplastics Co.Inc.V FaytexCorp案（第二种观点）。 从我国专利法以及审查指南的规定可以看出，我国对“方法限定的产品权利要求”，或者说”包含方法特征的产品权利”的判断标准既不同于上面提及的“产品限定法”，也不同于上面提及的“全部限定法”，其含义界于两者之间。我国采取的标准是方法对产品的实际限定作用，即方法对所要求保护的产品本身带来何种影响。 在实践中，审查员经常以包含方法特征的产品权利要求中的方法特征为常用的技术手段或常规选择来驳斥这类产品权利要求的创造性；或者以本申请的制备方法虽然与对比文件的方法在温度、压力等方面不同，但是从结构和/或组成上却无法将两者所获得的产品区分开来驳斥该产品权利要求的新颖性/创造性。针对这些情况，本文选取了两个具有代表性的实际案例，来探讨在一件专利申请中包含方法特征的产品权利要求的新颖性/创造性的一些答复经验。 包含方法特征的产品权利要求的新颖性/创造性案例分析 下面对具体案例进行详细讨论，以期能够为申请人和代理人如何更好地答复相关的审查意见提供一些指导和帮助。 案例一： 权利要求1：一种制造复合膜的方法，包括以下步骤： 1 形成聚合物衬底层 2 在至少一个方向上拉伸所述衬底层 3 在大约19-75kg/m膜宽度范围内的张力的尺寸控制条件下，在高于所述衬底层聚合物的玻璃转化温度且低于其熔化温度的温度下进行热定形 4 在高于所述衬底层聚合物的玻璃转化温度且低于其熔化温度的温度下，对所述膜进行热稳定 5 施加平面化涂层组合物，使所述涂层衬底表面表现出小于0.7nm的Ra值和/或小于0.9nm的Rq值 6 通过微波活化的反应磁控管溅射提供厚度为2-1000nm的无机屏蔽层 权利要求28：一种电子或者光电子器件，包括含有聚合物衬底、平面化涂层和无机屏蔽层的复合膜，其中所述屏蔽层的厚度为2-1000nm，可通过利用微波活化的反应磁控管溅射施加所述屏蔽层而获得，其中所述复合膜还包括电极层。 在实质审查过程中，审查员认为权利要求1和权利要求28相对于对比文件1、2不具有创造性。具体地，审查员指出权利要求1与对比文件1的区别特征“无机屏蔽层的厚度为2-1000nm；溅射是微波活化的反应磁控管溅射”，然而，这样的厚度是常规选择，且微波活化的反应磁控管溅射是从常规多种溅射方法中选择的一种。对比文件2公开了利用磁控溅射制造无机氧化屏蔽层，权利要求1与对比文件2的区别特征为“利用微波活化的反应磁控管溅射来获得无机屏蔽层”，然而，该区别特征是本领域的常规技术，微波活化的反应磁控管溅射是一种常见的磁控溅射技术，本领域技术人员容易想到。对于权利要求28，“可通过利用微波活化的反应磁控管溅射施加所述屏蔽层而获得”是方法技术特征，该方法特征不能导致权利要求28的器件具有区别于对比文件1和2的器件的特定结构和/或组成。权利要求28与对比文件1的区别特征为“无机屏蔽层的厚度为2-1000nm”，而这样的厚度是常规选择。 针对这类案例，根据审查指南（2010版）第二部分第三章第3.2.5节的规定可知，如果申请人能