网站大量收购闲置独家精品文档,联系QQ:2885784924

ESD和TCAD仿真.ppt

  1. 1、本文档共163页,可阅读全部内容。
  2. 2、有哪些信誉好的足球投注网站(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
ESD和TCAD仿真

共163页 ESD与TCAD仿真 报告人:浙大微电子 崔强 Welcome! 热烈欢迎各位参加本次讲座的学员。由于本人水平有限,在座的各位如果有什么问题,请立刻打断我。 Welcome! 本次讲座分3个小节,中途有两次休息,欢迎大家和我探讨。 单元1:TCAD简介 单元2:ESD的TCAD仿真简介 单元3:ESD的仿真评价体系 单元1 1.1:TCAD总体简介 1.2:Tsuprem4/Medici 1.3:Athena/Atlas 1.4:Dios/ Dessis (ISE-TCAD) 1.1:TCAD总体简介 TCAD-Technology Computer Aided Design Tsuprem/Medici(Avanti,被Synopsys收购) Athena/Atlas(Silvaco公司) Dios/Dessis(Ise公司,被Synopsys 收购) 1.2:Tsuprem4/Medici Tsuprem4/Medici是Avanti公司的二维工艺、器件仿真集成软件包。Tsuprem4是对应的工艺仿真软件,Medici是器件仿真软件。在实践中,可以将Tsuprem4的工艺仿真的结果导入到Medici中,从而进行较为精确的仿真。 1.2 .1:Tsuprem4 CAPABILITIES TSUPREM-4 simulates silicon IC process fabrication Ion Implantation Epitaxial growth Diffusion Oxidation of silicon and polysilicon Etching and deposition Silicidation of silicon and polysilicon SPECIFICATIONS Two-dimensional Supports up to 40,000 nodes Written in C COMMAND INPUT LANGUAGE The input language is made up of commands and corresponding parameters There is only one command per line The line can be up to 80 characters long. If it s longer, we can continue in the next line, but the last character in the previous line must be a “+” character. TYPES OF COMMANDS There are two types of commands Declaration (used to set parameters) Action (execution – used to perform a process step) PARAMETERS There are three types of parameters Numerical (e.g. temp=1000) Logical (e.g. clear) Character (e.g. “NMOS3A”) FILES ASSOCIATED WITH RUNNING TSUPREM-4 SIMULATIONS Input file (*.inp) Output file (*.out – appended automatically by program) TSUPREM-4 structure file (*.str) MEDICI/DAVINCI file (*.dev) Universal (TIF) format file (*.tif) CREATE A SIMULATION Setting up the initial grid Models and coefficients (method) Process statements (deposition, expose, develop, etch, implant, diffusion, epitaxy) Electrical calculations in TSUPREM-4 Extracting results (Non-electrical) from TSUPREM-4 1.2 .2:Medici Features: Medici solves Poisson’s equation and the current continuity of electrons and holes in two dimensi

文档评论(0)

ligennv1314 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档