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- | 2015-12-10 颁布
- | 2017-01-01 实施
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GBT 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
ICS77.040
H 17
中华人 民共和 国国家标准
/ —
GBT24578 2015
代替 / —
GBT24578 2009
硅片表面金属沾污的全反射
X光荧光光谱测试方法
Testmethodformeasurin surfacemetalcontaminationonsiliconwafers
g
b totalreflectionX-Ra fluorescencesectrosco
y y p py
2015-12-10发布 2017-01-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发 布
中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会
/ —
GBT24578 2015
前 言
本标准按照 / — 给出的规则起草。
GBT1.1 2009
本标准代替 / — 《硅片表面金属沾污的全反射 光荧光光谱测试方法》。
GBT24578 2009 X
/ — , :
本标准与GBT24578 2009相比 主要变化如下
——— , 、 , 、 、
扩大了标准适用范围 除适用于硅抛光片 外延片外 同样适用于测定砷化镓 碳化硅 SOI等
( );
材料镜面抛光晶片表面的金属沾污 见第 章
1
——— ( )。
干扰因素中增加了晶片表面对测试结果的影响 见第 章
6
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会( / )与全国半导体设备和材料标准
SACTC203
化技术委员会材料分会( / / )共同提出并归口。
SACTC203SC2
: 、 、
本标准起草单位 有研新材料股份有限公司 万向硅峰电子股份有限公司 浙江省硅材料质量检验
中心。
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