PLA_TCMC静电纺丝膜的制备及溶液中Cu_2_离子的去除_陈哲PLA_TCMC静电纺丝膜的制备及溶液中Cu_2_离子的去除_陈哲.pdf

第 卷 第 期 膜 科 学 与 技 术 ３３ １ Ｖｏｌ．３３ Ｎｏ．１ 　 　 　 　 　 　 　 年 月 ２０１３ ２ ＭＥＭＢＲＡＮＥ ＳＣＩＥＮＣＥＡＮＤ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ Ｆｅｂ．２０１３ 　 　 　 　 ／ 静电纺丝膜的制备及 ＰＬＡ ＴＣＭＣ 溶液中 ２＋离子的去除 Ｃｕ ， ， ， ， １２ １２ ＊ １２ １ ， ， ， 陈 哲 林晓艳 李 莹 罗学刚 　 　 （ ； ， ） 西南科技大学 生物质材料教育部工程研究中心 材料科学与工程学院 四川绵阳 １． ２． ６２１０１０ ： ／ ， 、 摘要 采 用静 电纺 丝技 术 制 备 不 同质 量 比 的 ＰＬＡ ＴＣＭＣ 静 电共 混 纺 丝 膜 并 通 过 ＦＴＩＲ 、 及 拉 伸 测 试 进 行 表 征 同时将 质 量 比 为 的静 电共 混 纺 丝 膜 应 用 于 溶 液 中 ＴＧ ＤＳＣ ． ６０∶４０ ２＋ ２＋ ， 、 、 Ｃｕ 去除研究 考察 了初始 浓度 流 动 时 间 使用 次数 等对 静 电共 混 纺丝膜去除 溶液 中 Ｃｕ ： ， 的能力 结果表明 与 的质量 比为 时 纺丝 才 能得 到 的 纤 维 直 径 比较 均 ． ＰＬＡ ＴＣＭＣ ６０∶４０ ， 、 ； 匀 纤维形貌较 好 具 有较 好 的热稳定 性 和拉伸 强度 静 电共 混 纺丝膜 能一 定程 度 地 去除 溶液 ， ； ， ／ 中的铜 离子 其去除 率最高 可 达 １３．７７％ 去除 率 受初 始 浓度 的影 响 当初 始 浓度 为 ４０ｍ Ｌ ｇ ； ， ， ， 时去除率最高