Array CVD 工艺培训.ppt

一、中试线PECVD工艺介绍 目录 一、CVD技术应用与进展 CVD Applications Deposition Process Deposition Process 温度 气体流量比 (Si:H,N:H,Si:N) RF power Pressure Spacing (上下电极间距) 小结 练习： 1、PECVD的中文名称是：_____________ 2、LTPS-CVD主要的4层膜是：_______________________ 3、CVD300 CHA温度是：__________； CHB 温度是：__________； 4、CVD 五大性能影响因素： ____________________________________________ 5、Plasma两个主要作用：_____________________ 二、中试线PECVD设备介绍 二、中试线PECVD设备介绍 ---AKT-5500 PX 1、CVD机台总体介绍 2、Loadlock介绍 3、Transfer Chamber介绍 4、Process Chamber介绍 5、操作界面认识 操作机台界面认识 操作机台界面认识 小结 1、CVD主机台总体认识； 2、Loadlock认识； 3、T/C CH及P/C CH认识； 4、各个操作界面认识； 单Process Chamber 介绍 Lid assembly Body assembly Base assembly PC Lid Assembly RPSC Unit RF Match Box Lid lift fixture Cooling Plate View Port Windows Resistor Manifold Process Chamber Lid Remote Plasma Source Gas Mixture Manifold Chamber Lid Quick Disconnects RF Match Gas Line PC Diffuser Assembly Floating Diffuser Lid frame PC Diffuser Assembly Floating Diffuser (Diffuser Side Up) Lifting fixture RF Match Box RF Cable (from generator) Signal Cable DI Water Return DI Water Supply AC Power Source Power Switch RF Cable in place Interlock Switch RPSC Unit Resistor Pack/Gas Feed-thru Ar/NF3 Gas feed Resistor Pack Cooling Water (both ends) PC Lid Quick Disconnect Facilities H2O (Supply/Return) for RPS IV RF Match DI H2O (Supply/Return) RF Cable (to RF Match Box) Signals to RPS IV and RF Match Box Power to RPS IV Process Chamber Vacuum Components Vacuum Valve 真空阀 Vacuum Pump Foreline Connection Throttle Valve 碟阀 2种模式： AutomaticManual 由该界面 可获得信息： 1、正在做及等待 做的玻璃信息； 2、已选则玻璃 对应recipe信息 操作机台界面认识 操作机台界面认识 由该界面 可获得信息： 1、历史记录查询； 2、run货时间确认； 3、每片glass对应成 膜时间及recipe信息 查询； 由该界面 可获得信息： 1、已选玻璃及卡夹 信息； 2、对应port口卡夹 完成状况 操作机台界面认识 由该界面 可获得信息： 1、各腔室、port口 online offline切换； * XMTM OLED Team CVD 设备工艺介绍 * XMTM 201