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氣體純化系統 GAS PURIFICATION SYSTEM GAS PURIFICATION SYSTEM 領先科技之原創產品 、 設計 製造及安裝 供應全球半導體市場所需之高效能、高品質的整體 解決方案。 分佈 在日本和全球銷售、服務體系佈建 90 個分公司以支 援半導體市場。 品質管理 設備部門已取得ISO-9001、14001以及OHSAS18001 認證,並遵循 SEMI-S2 和 CE 認證的標準,製造氣體 純化器、廢氣處理系統。 目錄 代 表 性 產 品 2 品 質 系 統 安 全 認 證 3 惰 性 氣 體 純 化 器 (TPNP/TPAP/TPRP)4 稀 有 氣 體 純 化 器 (TPAG/TPRG)5 氧 氣 純 化 器 (TPOP)6 氫 氣 純 化 器 (TPHP)7 低 溫 氫 氣 純 化 器 (TPHL)8 氨 氣 純 化 器 (TPMP)9 集 團 主 要 海 外 子 公 司 10 1 GAS PURIFICATION SYSTEM GAS PURIFICATION SYSTEM 代表性產品 ■大型氮氣純化器 3,000m3/Hr 等級 ■標準型氣體純化器 ■低溫氫氣純化器 500m3/Hr 等級 2 GAS PURIFICATION SYSTEM GAS PURIFICATION SYSTEM 品質系統 安全認證 ■ISO 9001 : 2008 ■ISO 14001 : 2004 ■OHSAS 18001 : 2007 3 GAS PURIFICATION SYSTEM GAS PURIFICATION SYSTEM 惰性氣體純化器 : (TPNP/TPAP/TPRP) ■系統 ■流程圖 ● 型號 氣體 型號 處理容量(Nm3/h) TPNP-1000 ( 標準型 ) 3~2000 N2 TPNP-100C (CH4 去除型 ) 100~2000 Ar TPAP-1000 ( 標準型 ) 3~100 He TPRP-1000 ( 標準型 ) 3~ 100 ● 純化系統 O2 、CO、H 透過觸媒去除,CO 、HO 透過吸附劑去除。 2 2 2 ● 純化原理 ( 觸媒 / 吸附 ) 純化 : 2Ni+O2 → 2NiO Ni+CO → Ni(CO) H2 由觸媒吸附。 再生 : NiO+H → Ni+H O 2 2 Ni(CO)+3H → Ni+CH +H O 2 4 2 ■保證規格 TPNP/TPAP/TPR

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