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氣體純化系統
GAS PURIFICATION SYSTEM
GAS PURIFICATION SYSTEM
領先科技之原創產品
、
設計 製造及安裝
供應全球半導體市場所需之高效能、高品質的整體
解決方案。
分佈
在日本和全球銷售、服務體系佈建 90 個分公司以支
援半導體市場。
品質管理
設備部門已取得ISO-9001、14001以及OHSAS18001
認證,並遵循 SEMI-S2 和 CE 認證的標準,製造氣體
純化器、廢氣處理系統。
目錄
代 表 性 產 品 2
品 質 系 統 安 全 認 證 3
惰 性 氣 體 純 化 器 (TPNP/TPAP/TPRP)4
稀 有 氣 體 純 化 器 (TPAG/TPRG)5
氧 氣 純 化 器 (TPOP)6
氫 氣 純 化 器 (TPHP)7
低 溫 氫 氣 純 化 器 (TPHL)8
氨 氣 純 化 器 (TPMP)9
集 團 主 要 海 外 子 公 司 10
1
GAS PURIFICATION SYSTEM
GAS PURIFICATION SYSTEM
代表性產品
■大型氮氣純化器
3,000m3/Hr 等級
■標準型氣體純化器
■低溫氫氣純化器
500m3/Hr 等級
2
GAS PURIFICATION SYSTEM
GAS PURIFICATION SYSTEM
品質系統 安全認證
■ISO 9001 : 2008 ■ISO 14001 : 2004
■OHSAS 18001 : 2007
3
GAS PURIFICATION SYSTEM
GAS PURIFICATION SYSTEM
惰性氣體純化器 : (TPNP/TPAP/TPRP)
■系統 ■流程圖
● 型號
氣體 型號 處理容量(Nm3/h)
TPNP-1000 ( 標準型 ) 3~2000
N2
TPNP-100C (CH4 去除型 ) 100~2000
Ar TPAP-1000 ( 標準型 ) 3~100
He TPRP-1000 ( 標準型 ) 3~ 100
● 純化系統
O2 、CO、H 透過觸媒去除,CO 、HO 透過吸附劑去除。
2 2 2
● 純化原理 ( 觸媒 / 吸附 )
純化 : 2Ni+O2 → 2NiO Ni+CO → Ni(CO)
H2 由觸媒吸附。
再生 : NiO+H → Ni+H O
2 2
Ni(CO)+3H → Ni+CH +H O
2 4 2
■保證規格
TPNP/TPAP/TPR
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