场助热电子发射显示器介质层的研究.pdf

场助热电子发射显示器介质层的研究 ofE．——Beam DielectricThin InvestigationEvaporated FilmandTheir inFED Application 王红光 刘逸忠 肖 田 Xiaotian WanghongguangLiuyizhong 上海广电电子股份公司 平板显示技术研发中心 FPDRDcenterofSVAELECTRONCO，．LTD． 摘要：本文介绍了一种场助热电子发射阴极中鲍缘介质层的制作工艺。对五氧化二钽、三氧化二铝、二氧化铪 等介质进行了电子束蒸发镀膜实验，并对其电学性能进行了分析比较，在此基础上复合了Ta,Os-A120，一FIfO：等几种 介质结构，经过对复合结构的击穿场强、介电常数等电学性能的测试后确认获得了比较满意的结果。 关键词：场助熟电子发射显示器复合 Abstract：SeveralE-Beam dielectricthinfdmare inthis work．’I砬05、J地03、I-If02 evaporated reported a陀evaporated andtheirelectrical and arede- electron-beam fdms by pmportiesa糟analyzedcompared．Ta妇s—A1203-HfO,．composite basedonthisresult．Electricalmeasurementof dielectric‰confirmedmuch overalldielec· posited composite improved tric pmporties． AssistHot-electron Keywords：Field EmittingDisplay(FAHED)composite 一、序 言 数字技术的发展，高清晰度电视的需求，对显示器也提出了更高的要求，各种数字平板显示技术也应运 相比都有着独特的优点和应用、发展的巨大空间。近十余年，由于微细加工技术及薄膜生长技术的提高，加 缺点，由于FED依然采用高压荧光粉，拥有高亮度和丰富的彩色再现性，是其它显示器件难以达到的，因此 长期以来FED的研究开发一直没有停止过，在克服关键技术壁垒之后FED完全有理由成为新一代性能优 异的平板显示器的主流。 二、场助热电子发射的结构与工作原理 场助热电子发射(FAHED)是场致发射的一种，它与其他几 艇☆t电辍 种电子发射方式锥尖阵列(FEA)、表面传导(SCE)、碳纳米管 复台上电糖 电子传输篷 (CNT)等不同，属于薄膜内场致发射。FAHED是利用电子隧穿效 绝缘介璇磁 应来获得热电子并形成发射【n，图1系FAHED阴极基本结构图，