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UniMap 原理與簡介
PSS Inspection System
: 反射率檢測簡介
;1.為什麼要量測PSS反射率 ;Critical Angle Loss;不同PSS 的幾何圖形,會有不同的發光效率,ex : 深度與發光成正比;2.Configuration of UniMap;;Reflectivity is changed with Pattern shape and size
Data(Relative Reflectivity)
= Reflectivity of PSS/ Reflectivity of bare Sapphire;Measuring;Data Table;What kind of data is coming in UniMAP?;;;PSS Wafer Uniformity Measurement ;Wafer no. 7 uniformity compare with confocal data
On wafer std data good;Wafer no. 9 uniformity compare with confocal data
On wafer std data not good;C XX ICP Etch result;2inch 1mm step;AVR(STD) : 22.77(9.87)
Measure Time : 270sec;Data for PSS inspection;Reflection for PR Patterned Sapphire wafer;Week1;Summary;Thanks for your attention
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