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ITO薄膜添加Ag对电磁波遮蔽之影响TheaddAgfor-国立勤益科技大学.PDF
2013 綠色科技工程與應用研討會(GTEA) 中華民國 臺灣 臺中市國立 勤益科技大學
中華民國一百零二年五月 二十四日 論文編號 :GT9-012
電磁波遮蔽之影響
ITO 薄膜添加 Ag 對
The add Ag for ITO films impact of electromagnetic shielding effectiveness
*
戴峻昌 , 鄭文達
Jun-chang Dai, Wern-Dare Jheng
國立勤益科技大學 機械工程系
Department of Mechanical Engineering ,
National Chin-Yi University of Technology
E-mail ：korec721@.tw
摘要
本實驗為利用真空磁控濺射 機在塑膠板上製備兩種電磁波遮蔽薄膜 ，一種為 ITO 薄膜另
一種則 為 ITO/Ag/ITO 薄膜，比較兩種不同薄膜在相同濺射 參數的情況下 ，有無添加 Ag 對電
磁波 遮蔽效能之影響 。首先PC(聚碳酸酯)板作為襯底將 ITO及 Ag作為濺射靶材，改變 ITO
之濺射 功率並且固定 Ag濺射 功率之方式，製備出含量不同的 ITO 薄膜及ITO/Ag/ITO 薄膜。
利用多功能色相儀來量測其穿透率，藉以比較 兩種不同薄膜在相同濺射參數下其穿透率之優
劣。
本文利用改變 ITO靶濺射功率 (30 瓦、40 瓦、50 瓦、60 瓦的方式來製備出) 不同含量的
ITO 薄膜及ITO/Ag/ITO 薄膜，以無線網路數據機作為電磁波發射源並用毫高斯計測量電磁波
遮蔽效益 ，發現在相同的 ITO濺射參數下有多鍍上 Ag的 ITO/Ag/ITO 薄膜比沒有濺鍍Ag的
ITO 薄膜，效能可提高2倍以上 。
關鍵 字詞 ：磁控濺射 ，電磁波遮蔽 ，ITO
Abstract
This study made two electromagnetic wave shielding thin films, which were ITO thin film and the ITO /
Ag /
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