proe的最经典的特征操作.ppt

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2018-06-05 发布于江苏
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proe的最经典的特征操作

继续下一页上一页子特征与父特征的关系分类：阵列前相同型阵列可变型阵列一般型阵列注：系统对“一般”特征不做什么要求。建议优先选用“一般”。在选取“一般”后，若想创建特征尺寸变化的阵列，可选择要变化的尺寸作为引导尺寸，并指定增量值。继续下一页上一页 4、特征阵列的操作方法： ⑵、选取需阵列的特征，在主菜单中单击【编辑】 → 【阵列】 ⑶、在模型树中选取需阵列的特征，并击右键，在弹出的快捷菜单中选取【阵列】选项。三种方法的结果，均出现特征阵列操控面板。 ⑴、选取需阵列的特征，在工具条上单击 5、特征阵列操控面板的设置： ⑴、特征阵列的方式：继续下一页上一页 ①、尺寸：通过选取特征的参考尺寸，并设置其尺寸增量和阵列的数量来创建阵列特征。 ②、方向：通过选取阵列方向，并设置沿此方向阵列的偏距和数量来创建阵列特征。 ③、轴：以所选轴线为中心进行圆周阵列。 ④、填充：用阵列成员来填充一草绘区域。 ⑤、表：使用阵列表并为每一个阵列实例指定尺寸来控制阵列。 ⑥、参照：参照现有阵列来创建阵列。注：一个特征只能阵列一次。继续下一页上一页阵列尺寸的设置： ①、尺寸：通过选取特征的参考尺寸，并设置其尺寸增量和阵列的数量来创建阵列特征。选择沿第一方向需变化的参考尺寸（及尺寸增量），可选择多个参考尺寸（按下Ctrl键）。选择沿第二方向需变化的参考尺寸（及尺寸增量）（此方向也可不设置）注意阵列方向（可通过增量正负改变方向）选择特征尺寸，给出增量，改变阵列特征尺寸。继续下一页上一页阵列方向的设置：选择基准面、平面、直线、轴，以定义第一阵列方向的参照选择基准面、平面、直线、轴，以定义第二阵列方向的参照（此方向也可不设置）定义阵列的方向、数量和偏距 ②、方向：继续下一页上一页阵列轴的设置：选择要成为阵列中心的基准轴设置阵列的角度范围（与前一项只可选其一）定义阵列的方向、数量和阵列间夹角定义圆周阵列的径向数量和间距保持阵列成员的角度方向 ③、轴：继续下一页上一页阵列填充的设置：选择一草绘作为阵列的填充区设置阵列间距选择阵列的分布样式定义阵列的旋转角设置阵列与填充边界的间距当阵列呈圆形分布时，定义径向间距定义草绘 ④、填充：注：通过表的阵列方式可进行不规则阵列。继续下一页上一页阵列表的设置：选择阵列表尺寸选择表名单编辑活动表按规定格式编辑、保存并退出 ⑤、表：通过使用阵列表为每一个阵列特征指定尺寸值来控制生成阵列。按下Ctrl，选取尺寸，在操控板中单击【编辑】，编辑表尺寸。注：通过表的阵列方式可进行不规则阵列。继续下一页上一页 ⑥、参照：通过参照另一阵列来控制阵列。六、特征的成组：要对几个特征进行阵列时，需先将要同时阵列的特征组成一组，这就是特征的成组（Group）操作。成组操作方法：通过【编辑】菜单中的【特征操作】，在弹出的菜单管理器中，选择【组】命令，选择【创建】，选择【局部组】，输入组名，选取成特征，点击【完成】。注：①、阵列方式之间的转换。 ②、子阵列项的删除和恢复方法。注：在零件模式下使用参照方式阵列，特征必须创建在首位特征上。继续下一页上一页注意：①、其它方法的应用：按下Crrl键选取成组特征，在模型树中右击；或在设计环境中选取右击选择【组】命令，或选择【编辑】菜单中的【组】命令。 ②、分解组：在模型树种选择组，右击选择【分解组】命令。继续下一页上一页七、特征投影：特征投影可以在实体上投影，也可在曲面上进行投影。创建特征投影的方法：选择【编辑】菜单中的【投影】命令。继续下一页上一页八、特征包络：可通过特征包络在实体表面上创建成形特征（文字、基准曲线等）。创建特征包络的方法：选择【编辑】菜单中的【包络】命令。结束继续下一页上一页继续下一页上一页㈥、调整特征的父子关系：在创建一个特征时，往往需要定义特征的草绘平面、草平面的参照和截面的草图参照（点、线、面）（尺寸标注参照) ，在特征的草绘界面中还需要标注截面的定位尺寸、建立一些约束，而这些草绘平面、草绘平面的垂直参照平面、截面的草图参照（点、线、面）等往往都是其它特征的点、线、面，形成父子关系。