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这周制程组讨论的专题是围绕南海奇美一期CDA系统进行详细的介绍CDA系统。 南海奇美一期CDA系统分两种气体：CDA、IA CDA 即Compressed Dry Air,主要用于芯片经水清洗后之吹干用、制程设备驱动器动力、…..等其它用途。主要运用于无尘室。露点为-70℃ IA 即Instrument Air ,主要用于设备驱动器动力、气动阀，仪器仪表等用途。主要运用于一般区。露点为+2℃ CDA的工作流程分压缩流程和干燥流程。详细的流程图如下： 压缩流程： 注：空压机出口压力为8.5KG 空气的标准状态：在温度T=20℃,绝对压力P=0.1MPa,相对湿度φ=65%时的空气状态。空气密度是1.185KG/M3，空压机、吸干机、过滤器单位一般写作Nm3/Min 压力露点：湿空气被压缩后，水蒸气密度增加，温度上升。压缩空气冷却时，相对湿度便增加，使其相对湿度达100%时的温度。 干燥流程： 注：冷冻式干燥机-----达露点温度+2~4℃，应用在IA 系统 吸附式干燥机-----达露点温度-70℃，应用在CDA系统。 CDA系统的主要设备有空气压缩机（离心空压机或螺杆空压机）、干燥机（冷冻式干燥机或吸附式干燥机）、过滤器（前置过滤器，活性碳过滤器，后置过滤器，终置过滤器）、空气储气罐等。离心空压机和螺杆空压机的原理图如下： 离心空压机原理图： 螺杆空压机原理图： 吸附式干燥机的工作过程分吸附行程，再生行程，吸附再生行程，冷却行程，建压行程，备便行程等。 南海奇美一期CDA系统不锈钢管所用： CDA: SUS304L-MP IA: SUS304 不锈钢管等级分类：AP、MP、BA、EP APMPBAEP AP：即酸洗处理（ Acid Pickling ），MP： 即机械抛光（ Mechanical polishing ），BA：即光辉退火（Bright Annealing)， EP：即电解抛光（Electro Polishing)。 Bulk Gas 一般流速为10m/s (压力7.5kg/cm2); ArHe 10~15m/s; SiH4、PH35m/s; CO2、NH31~5m/s 气体管径设计计算公式： LV----管内气体速度 Q------管内气体流量 A------管截面积 P-------管内气体设计压力 T-------管内气体温度 在施工完成后，须要做一系列的测试工作，保压实验检测标准是以设计压力之1.5倍保留24小时做暂压试验，用压力记录器记录，看系统是否有漏气。除了做保压试验外，还要用微粒子计量器进行Particle微粒检测、水分测量和含氧量测量。