有关PCB曝光机之专利.ppt

有關PCB曝光機之專利 －技術功效分類 g9734538 林韋志 技術功效研究流程 瞭解PCB製程 專利檢索並定義出相關技術與功效再繪製魚骨圖 針對所搜尋到的專利MAPPING到各個技術與功效 將各專利所對應的技術與功效輸入到專利分析平台上作進一步的分析 自動曝光機動作流程 技術分類魚骨圖 功效分類魚骨圖 專利技術分析 技術魚骨圖MAPPING專利文件 專利技術組合分析 技術發展關聯圖(時間VS技術) 2006年光學元件設計(可提供RD人員技術傳承) 專利功效分析 功效魚骨圖MAPPING專利文件 專利功效組合分析 功效發展關聯圖(時間VS功效) 2008年提高位置對準精度功效(可供新進人員快速了解特定功效之專利組合) 專利佈局分析 歷年專利數量分析表 公司專利數量統計 志聖工業股份有限公司 －技術功效矩陣圖 技術功效矩陣圖 －志聖v.s.張鴻明 原公司與競爭公司之技術比較 原公司與競爭公司之專利技術雷達圖比較 聚焦分析(對位系統設計 VS提高位置對準精度)提供專利相關技術功效與既有專利佈局 後續分析 進行關鍵專利解析 迴避設計 The EndThank you! * * 專利檢索結果 1.曝光機檢索: 1610(篇) 2.人工篩選: 100(篇) 3.FINAL篩選: 50(篇) 針對第三步之50篇專利進行精讀並定義相關技術與功效 4.FINAL MAPPING: 100(篇) 技術分類 曝光 吸真空 對位 移載 結構改良設計 密接曝光設計 光學元件設計 對位系統設計 定位系統設計 機構調整設計 光學系統設計 平台模組設計 搬運裝置 感光物改進 功效分類 效率提昇 精準度提昇 干擾改善 密合度提昇 提昇投射影像精準度 改善曝光精度 提高位置對準精度 提升燈源使用效率 提升光罩交換效率 改善生產效率 改善過熱問題 改善對位易受干擾 提昇投射影像精準度 改善染塵率 功能強化 提升基板與光罩密接性 改善曝光機的全面性 於不同區塊進行曝光 7 搬運裝置 B10 21 結構改良設計 B09 8 平台模組設計 B08 7 定位系統設計 B07 17 對位系統設計 B06 24 機構調整設計 B05 25 光學元件設計 B04 7 感光物改進 B03 15 光學系統設計 B02 5 密接曝光設計 B01 All 技術分類一階 8 於不同區塊進行曝光 C13 15 改善曝光機的全面性 C12 10 提升基板與光罩密接性 C11 3 改善對位易受干擾 C10 10 改善過熱問題 C09 14 改善染塵率 C08 1 提昇投射影像精準度 C07 19 改善生產效率 C06 5 提升光罩交換效率 C05 8 提升燈源使用效率 C04 12 改善曝光精度 C03 26 提高位置對準精度 C02 8 提昇投射影像精準度 C01 All 技術分類一階 2.04% 2 陳花國,陳花明 2.04% 2 南亞科技股份有限公司 3.06% 3 財團法人工業技術研究院 3.06% 3 東京威力科創股份有限公司 3.06% 3 奇美實業股份有限公司 3.06% 3 尼康股份有限公司 3.06% 3 日本美可多龍股份有限公司 4.08% 4 三榮技研股份有限公司 7.14% 7 川寶科技股份有限公司 7.14% 7 亞多特克工程股份有限公司 7.14% 7 奧克製作所股份有限公司 8.16% 8 張鴻明 12.24% 12 志聖工業股份有限公司 所佔百分比 數量 公司 機構調整設計 光學元件設計 光學系統設計 平台模組設計 結構改良設計 定位系統設計 技術功效矩陣圖