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Creo高级阵列实的例解析
Creo 高级阵列实例解析
一.阵列的定义
通过重复复制、改变某一个(或一组)特征的指定尺寸,根据设定的变化规律和数量,
自动生成一系列具有参数相关性的特征(组)。
在CREO 软件中,阵列的方式有以下八种:
1.尺寸阵列:需选取特征尺寸,并指定这些尺寸的增量变化以及阵列中特征实体数。
2.方向阵列:需选取平整面、线、轴来定义方向,同时也可以使用特征尺寸增量来控制阵列
实体的形状及位置的变化。
3.轴阵列:通过围绕一个选定的旋转轴(基准轴等)创建特征副本的阵列方式。
4.填充阵列:指定的物体表面或部分表面区域,生成均匀的阵列。
5.表阵列:使用表格的方式设定阵列特征的空间尺寸和本身尺寸。
6.参考阵列:借助已有的阵列实现新阵列的方法,参考阵列操作对象必须与已有阵列的源实
体有定位尺寸关系。
7.曲线阵列;指定阵列成员间距离或成员个数,来沿着草绘曲线创建其阵列特征。
8.点阵列:通过创建基准点或草绘几何点来创建其阵列特征。
温馨提示:
1.阵列特征不能直接使用【删除】命令来删除,因为这样会连你的原始特征也一起删掉,如
果要保留原始特征,请使用【删除阵列】命令来删除
2.阵列预览中的黑点代表要进行阵列的位置,单击黑点将其变成白点,表示此位置不需要阵
列。
3.若阵列的特征有多个,需将这些特征编组,然后再进行阵列
二.CREO 软件阵列操作界面
三.需要使用关系来控制阵列时,你会用到以下符号
memb_v - 指定方向中的关系驱动最终尺寸
memb_i - 指定方向中的关系驱动增量
lead_v - leader 值(选择尺寸确定方向)
idx1 -阵列实例索引在第一方向(代表当前实例特征在阵列中的位置,其值从
0 开始,第一方向第一个实例特征idx1=0,第五个实例特征idx1=4)
idx2 -阵列实例索引在第二方向(同上,只是方向不同而已)
不能在同一关系中使用memb_v 和memb_i,这些符号所代表的含义我将会在下面的
这些实例中详细说明。
四.实例解析
1.随形阵列
解析:阵列成员的高度随曲线的波动而变化,技巧就在于草绘特征截面时让其与曲线连系起
来。
A.先草绘一条曲线
B.选择拉伸工具,在原草绘平面中绘制矩形截面
C.直接阵列拉抻特征即可。
刚才上面讲到的是到曲线,下面这种则是到面面,操作更简单。
解析:直接拉伸到选定曲面,然后阵列即可,这里就不做详细说明了,只要注意一下草绘截
面与参考基准的位置尺寸。
2.方向阵列及轴阵列
相信很多朋友都见到过此题,现在我就重点讲解如何阵列完成上图的台阶。
解析:整个楼梯台阶呈360 度旋转,高度从圆柱最使低位置到最高位置,题目解法很多,
无论解法多少,思路都一样,一个旋转角度和一个高度变化。
方法一:轴阵列+高度尺寸增量(注意此高度尺寸必须为位置尺寸,如果你选择楼梯板的厚
度作为高度尺寸增量,那么每一级台阶厚度为叠加尺寸,这种效果相对于图片上的来还是比
较现实,但我们要的是图片效果)在这里,我新建的一个基准面,然后在基准面上绘制台阶,
最后再使用轴阵列,通过阵列基准面的位置尺寸来控制台阶高度变化,完成如下图(建议将
创建基准面的工作放在拉伸台阶的特征内完成)
方法二:方向阵列+角度尺寸增量(还是一样,角度尺寸必须是位置尺寸,方能完成上图效果)
d152 是一个角度定位尺寸,其值为360*5/100=18 度(100 为圆柱的高度,5 是台阶
的高度)如下图所示。
在使用阵列尺寸的时候,我们必须清楚知道自己阵列的尺寸是位置尺寸的还是形状尺寸,位
置尺寸只控制阵列后成员位置的变化,而形状尺寸则会改变成员的原始外形。
3.关系阵列(尺寸阵列)
关系阵列是本次阵列教程中的重点,以下讲解内容都是比较常见的,包含尺寸阵列、
数字阵列、行为建模中刻度的阵列以及字符串阵列。
A.尺寸阵列(关系应用)
解析:此题是两个方向阵列,
第一方向特征呈波形曲线排布且圆柱直径由大到小,高度由低到高。第二方向特征呈
直线均匀排布,无论直径大小,高度都一样再看下图
第一方向的尺寸
A.控制圆柱呈曲线排布的尺寸1 (初始值为50),这里需要用到参数
B.控制圆柱直径变化的尺寸3 (初始值为30)
C.控制圆柱高度变化的尺寸4 (初始值为20)
D 控制圆柱第一方向间距大小的尺寸2 (初始值为40)
第二方向的尺
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