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色谱分析法 第一节 色谱法概述 一、 色谱分析法的特点、分类和作用 2.色谱法分类 液相色谱 3.色谱法的两大特点：定性和定量 二、色谱分离过程 1. 色谱分离过程 2. 分配系数（ partion factor） K 分配系数 K 的讨论 3.分配比 （partion ratio）k 三、色谱流出曲线与术语 （2）用体积表示的保留值 3. 相对保留值r21 4. 区域宽度 第二节 色谱理论基础 一、塔板理论-柱分离效能指标 2.有效塔板数和有效塔板高度 3.塔板理论的特点和不足 二、 速率理论-影响柱效的因素 A─涡流扩散项 B/u —分子扩散项 C ·u —传质阻力项 2.载气流速与柱效——最佳流速 3. 影响H的主要因素 三、 分离度 讨论： 分离度的表达式： 讨论： 固定相 对固定相的要求：选择性好（分离能力高）、稳定性好（不与样品组分发生化学反应）、蒸气压低（不会流失） 固定相与组分分子间的作用力——是一种较弱的、分子间的吸引力。 （1）色散力——非极性分子间的作用力 （2）静电力——极性分子间的作用力 （3）诱导力——极性分子与非极性分子间的作用力 （4）氢键作用力 高效液相色谱法 HPLC 正反相键合相色谱法的比较流动相的极性＜固定相的极性，称为正相液液色谱法 流动相的极性＞固定液的极性，称为反相液液色谱分离原则——相似性原则 液相色谱分离类型选择 choice of separation types 离子色谱(IC) 技术概要 离子色谱是用离子交换分离和电导检测分析溶液 中无机阴、阳离子装置。目前已发展成为用新型 的高效分离柱，灵敏的电化学和光学检测器，梯 度泵和耐腐蚀的全塑系统，智能系统以及微机处 理的控制系统。离子色谱是测定阴离子的首推方 法，对 F-、Cl-、Br-、NO2-、NO3-、PO43-、SO42- 分析时间仅用七分钟。用梯度淋洗，一次进样在 30分钟内分离36个阴离子 (理论塔板数为6500)。 离子色谱流程图(DX-300) 影响离子洗脱顺序的因素 离子电荷 离子价数越高，与树脂的亲和力越强，保留时间越长。 Cl-——SO42-——PO43- 淋洗液的 pH PH值影响离子价态 PO43-——HPO42-——H2PO4- 离子半径 同电荷离子，半径越大，越易极化，与树脂亲和力越大，保留时间越长。 F-——Cl-——Br-——I- 树脂的种类 树脂交联度、功能基性质及其亲水性的大小直接影响样品离子和淋洗离子的分配平衡，从而影响离子分离的选择性 液相色谱的检测器 紫外可见光吸收检测器 荧光光度检测器 电导检测器 脉冲安培检测器 MS 红外 ICP-MS 一、色谱定性分析 qualitative analysis in chromatograph 二、色谱定量分析 quantitative analysis in chromatograph 一、色谱定性鉴定方法 2.利用文献保留值定性 检测器性能评价指标响应值（或灵敏度）S : 最低检测限（最小检测量）： 二、 色谱定量分析方法 2. 定量校正因子 3.常用的几种定量方法 （1）归一化法： （1）外标法 （3）内标法 ICP-MS，AAS，IC 的应用 超纯水 痕量金属杂质 硅杂质 离子 化学试剂 痕量金属杂质及离子 硅片表面 痕量金属杂质 薄层 BPSG、PSG、BSG中的B、P含量 Al层中Si、Cu含量 其他金属杂质 净化空气 痕量金属杂质 阴离子及氨离子 其他 自来水、RO排放水冷冻水、冷却水 焊料中的金属杂质 应用 超纯水，超纯试剂中杂质分析 硅片表面金属杂质分析 硅片氧化层中B、P含量分析 其他半导体用材料，如焊料、键合金丝等 其他行业用材料，如食物中Pb含量分析，考古样品等 超纯水中痕量金属杂质及离子 净化空气中痕量金属杂质及离子（μg/m3） 硅片表面沾污 VPD技术处理硅片表面 元素分析技术 原子吸收光谱（FAAS，GFAAS） 等离子体发射光谱（ICP-AES） 电感耦合等离子体质谱（ICP-MS） X射线荧光光谱（XRF） X射线荧光分析（XRF） 原子越重， X射线的能量越高： 质量成高质量数的原子易产生荧光发射，低质量数（?10）的原子易产生Auger发射，所以 XRF 对质量数小于10的元素灵敏度不高 X射线源 X射线管 W（短波长），Cr（长波长） 质子激发X射线激发源（PIXE） 同步辐射激发源 波长色散X荧光光谱仪（WDXRF） 能量色散X荧光光谱（EDXRF） 同时接收全部X射线谱 半导体检测器 S