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液晶材料与技术复习题 题型：名称解释、填空题、简答题、问答题 液晶材料的分类及其应用 向列型：长轴方向平行配置，有一度空间的规则性排列，黏度小，应答速度快。用于液晶电视、电脑等。 层列型：二度空间层状规则性排列，各层一度顺向排列，黏度大，外加电场应答速度慢。光记忆材料。 胆甾型：具有相互平行的层状规则性， 同一层面上各个分子长轴的方向相同。两个平面的分子长轴方向有一个角度，同波长的选择性反射，产生不同的颜色变化，故常应用于温度传感器。 液晶的光学性质 旋光性（光波导效应）：入射线偏振光的偏振方向在传输过程中沿分子螺旋排列结构同步旋转的现象。是TN模式显示器工作基础。光波导效应，出射光矢量转过的角度和扭曲角相同。其偏振面发生的旋转就与波长无关。旋光效应扭转角度和波长有关。 双折射性：液晶的折射率在平行和垂直与分子长轴的方向是不同的，呈现双折射性。入射线偏振光与分子长轴成一定角度的情况下，则入射光被分解成寻常光和非寻常光。在液晶层中产生相位差。 吸收二色性：液晶的光吸收系数在平行和垂直于分子长轴的方向是不同的，呈现所谓的吸收二色性。 光散射性：光线在折射率不同的两种介质界面上会产生折射或反射而偏离原来的传播方向。 液晶的形变 某些物质和液晶相接触会造成液晶指向矢指向一个特定方向。外加电场或磁场引起的表面效应也会引起液晶形变。液晶没有形变时，指向矢方向一致，形变后，指向矢逐点改变其方向。 一共有三种形变：Splay(展曲)、Twist（扭曲）、Bend（弯曲）。 弹性常数K33K11K22 TFT-LCD基本结构 结构：金属栅极、栅极绝缘层、非晶硅层、n +非晶硅层、源极/漏极和保护层。 1）顶栅型： 2)底栅型： 制造工艺简单，需要光刻次数少 因为底栅型结构的金属栅极和绝缘 通过改进光刻技术，可以降低成本 层同时可以作为半导体层的光学保 但是必须要为半导体层设置一层保 护层，以防止因背光源发出的光照 护膜，防止因背光源的光刺激有源 射到非晶硅层产生的光生载流子而 层产生的光生载流子而破坏有源层 破坏半导体层的电学特性。 的电学特性。 大多数TFT都使用底栅型结构，分为 多数用在反射式的液晶显示器当中 背沟道刻蚀型（BCE）和沟道保护型（ES） 和多晶硅TFT当中 BCE工艺简单，a硅更厚，ES多一次光刻，a硅要薄很多，容易实现，多数用BCE 液晶显示器的性能参数 （1）图像分辨率：显示器中每英寸像素点的数量。图像细腻程度。 （2）像素数与显示屏显示规格：CGA、VGA、QVGA等与像素点数量的对应关系。 （3）像素节距：像素重复的最小长度。决定像素大小。 （4）显示尺寸：可显示画面的区域的尺寸，有效显示区域。 （5）宽高比：画面宽和高度的比例。 （6）开口率：一个像素（亚像素）中可透光部分面积与总面积的比值。 （7）灰阶和显示色度：灰色的明暗程度的差异，称为灰阶显示。通过灰阶显示和彩色滤光片的结合可以实现彩色显示，显示色数由灰阶数决定。 （8）对比度：白光亮度和黑光亮度的比值，以显示黑状态是的透光率为基准。 （9）显示器的寿命 TN、STN显示模式原理 （1）TN: 在向列相液晶中加入一定量的胆甾相或是手征向列相液晶，保证液晶朝着一个方向扭曲90°。玻璃基板表面做平行取向处理，在内表面涂有相互垂直的定向膜，液晶分子在两片玻璃之间呈90° 扭曲。入射时，光线通过起偏片变成线偏振光，在没有加电场的时候，由于液晶的旋光性，光线出射时检偏片和起偏片垂直，光线可以通过，呈透光状态。当外加电场的时候，液晶长轴沿电场线排列，光线出射时被阻挡，呈暗态。 （2）不加电时，液晶分子扭曲排列（上下基板处液晶分子长轴连续扭曲270°），由于上下基板处液晶分子和起偏器偏振方向不是相互平行而是成30°，线偏振光在入射液晶层的时候有双折射，折射光在上基板处合成为椭圆偏振光，最后由一部分光从检偏器射出。 加电时，液晶分子变成垂直排列状态，呈暗态显示。 提高液晶显示器亮度的方法有哪些？ 解释TN液晶显示器视角不好的原因，并列举至少三种改善视角的技术 提高响应速度的方法，列举至少两种高响应速度的技术。 BCE和ES型TFT的比较 画图说明五次光刻工艺流程 TFT-LCD简易工艺流程 Array（阵列）工艺流程 Cell(制屏)工艺流程 Module(模组)工艺流程 CF的基本结构、黑矩阵的作用 什么是偏光片？偏光片的基本结构