表面活性剂对铝合金表面电化学沉积硅烷膜层的影响-中国表面活性剂网.PDFVIP

维普资讯 第37卷 第3期 2008年6月 表表面回致技术不 Vo1．37 No．3 Jun．20O8 SURFACE TECHNOLOGY 表面活性剂对铝合金表面 电化学沉积硅烷膜层的影响 徐以兵，何德良。周舟，钟建芳 (湖南大学化学生物传感与计量学国家重点实验室，湖南 长沙 410082) [摘 要] 采用交流阻抗技术研究了表面活性剂对不同条件下双-1，2-[3(三 乙氧基)硅丙基]四硫化物硅烷在铝合金表面阴 极电化学辅助沉积成膜的影响。研究表 明：在硅烷溶液中加入表面活性剂进行改性，可降低硅烷在铝合金表面电化学沉积的阴极沉 积电位，抑制硅烷沉积过程中的析H 作用，改善电极界面区域硅烷成膜环境。试验证 明：硅烷溶液 中表面活性剂的最佳改性浓度 为0．03％，在此浓度下，铝合金表面硅烷阴极电沉积的最佳沉积电位为一1．6V。 [关键词] 表面活性荆；铝合金 ；最佳沉积电位；硅烷膜 ；电化学沉积 [中图分类号]TG178 [文献标识码]A [文章编号]1001—3660(2008)03—0001—03 EffectsofSurfactantonElectrocl!om ical Deposition ofSilaneFilmsonAluminum Alloy XUYi-bing，HEDe-z ，ZHOUZhou，ZHONGJian-fang (StateKeyLaboratoryofChemo／BiosensingandChemometrics，HunanUniversity，Changsha410082，China) [Abstract] TheeffectofsurfactantondepositionofBis一1，2一[triethoxysilylpr叩y1]tetrasulfide(BTSPS)silane filmsonaluminumalloyatdifferentconditionswasinvestigatedbytheelectrochemicalimpedancespectroscopy(EIS)． Theresuhsshow thatthedecreasingofelectrodepositionpotential，thehydrogenevolutionandtheimprovementofinter— faceregionofelectrodecouldbereachedwhilethesurfactantisaddedintothesilanesolution．Itcanbefoundthatthe optimum concentrationofsurfactantis0．03％ ，andacriticalcathodicpotential forsilanedepositionis一1．6V underex— perimental conditions． [Keywords] Surfactant；Aluminum；Criticalcathodicpotential；Silanefilm；Electrochemicaldeposition 普遍的一类添加剂，特别是在电镀工艺中，常用作润湿剂 、平 0 引 言 整剂，起到防止镀层出现针孔以及平整膜层的作用。同样，硅烷 电化学辅助沉积作为一种与电镀相类似的技术，可能在沉积的 硅烷化处理技术是一种既环保，实用效果又好的金属表面 过程中也存在与电镀相类似的一系列问题。所以在硅烷溶液中 处理技术，主要通过硅羟基和金属氧化物反