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超大规模集成电路的一些材料物理问题!

!!!!!!! 知识和进展 ! !!!!!! # 超大规模集成电路的一些材料物理问题( ) ! 尺寸缩小带来的巨大挑战 刘洪图 吴自勤 (中国科学技术大学物理系 合肥 !##!$ ) (中国科学技术大学天文和应用物理系 合肥 !##!$ ) 摘 要 随着%’( 技术缩至)##*+ 或更小,在%’( 器件结构、接触电阻以及大直径硅晶片等方面均遇到一些 材料物理的巨大挑战, 关键词 超大规模集成电路,接触电阻,自对准硅化物工艺,大直径硅晶片 !#$ %!!$! ’ ()$ #*($+%*, -).!%/! ’+ ( ) ,(+* ,*+0$ !/*,$ %1($0+*(%1 -*+( ! 0%*1( /)*,,$10$! ’+ ()$ !/*,$2 ,!% -./ 01*2345 ( , , , ) !#$%’( )* +,-./0. 1(/2%./- )* 30/(0 $(4 50,()6)7- )* 8,/($ 9* / !##!$ 8,/($ 6/ 78398* ( , , , ) !#$%’( )* :.%)()’- ; :##6/4 +,-./0. 1(/2%./- )* 30/(0 $(4 50,()6)7- )* 8,/($ 9* / !##!$ 8,/($ *3456785 6: ;8=5 ?: 28@* =?@AA:*2: ?@ +@:B8@A C?D8= E@=: B:2@B;8*2 ?: B5=5B: 1E %’( ;:F8=:, , =1*@= B:8@*=: @*; A@B2: ;8@+::B 8A8=1* G@E:B G?:* %’( :=?*1A12D B:@=?: H:A1G )##*+ , , , , 9:; =64 /-(. =1*@= B:8@*=: @A8=8;: CB1=: A@B2: ;8@+::B 8A8=1* G@E:B 年, 的 技术规划对 的内在 结构中的寄生电阻、接触电阻以及尺寸缩小 )IIJ (.K /-(. %’( %’( 结构形式、有效沟道长度、栅氧化层厚度、结深以及 对自对准硅化物等提出的要求中所涉及的材料物

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