光学镀.ppt

光学镀工艺说明 原则上利用高温来熔融靶材SiO2或TiO2,由固态直接升华到气态。气态的靶材原子或分子,利用在蒸发源旁边,附加一个分离式的离子源,当靶材蒸发到腔体空间时,再使用离子粒子撞击靶材,将可加速靶材速度,崁入在基板表面，工件上面的沉积薄膜厚度均匀,镀膜成品得到一致的光学功能。 波长低于450nm,为紫外线，波长高于750nm,为红外线，都为人眼不可见光，只有波长为450nm-750nm为可见光，分别是紫、蓝、青、绿、黄、橙、红，根据不同的波长，镀相应的厚度，就形成相应的颜色。例如三星电池盖表面为蓝色，光学镀厚度就是相应的540nm。 光学镀工艺说明 下图为专用光学镀炉： 光学镀工艺过程 光学镀塑胶件的模具 ◆光学镀塑胶件的模具与普通的喷油塑胶模. ◆由于光学镀过程中有喷油,所以需要作喷油夹具. 光学镀特点: 光学镀膜表面形成一层强的反光层，通过不同镀膜厚度（450nm-750nm)，可以镀可见光中任何颜色，以下为光学镀样品图片： 光学镀特点: 手机行业常用的蒸发镀无法生产纯白色，在光学镀工艺中则无此限制，如图所示。 光学镀特点: 对于表面有细腻纹理产品（普通蒸发镀表面纹理会被遮盖）用光学镀来作就可以清晰体现素材表面细腻的纹理。 光学镀特点: 光学镀与蒸发镀的比较： 光学镀工艺难点 光学镀是手机外壳上首次使用，现行业内良品率较低； 光学镀对于深颜色的开发中涂层较多，波动范围大，工序多。 光学镀工艺简介 THANKS GEMS Confidential Sep ,15, 2012 GEMS Confidential April 1, 2009 光学镀工艺简介 光学镀工艺 说明 光学镀工艺 过程 光学镀工艺 特点 光学镀工艺 难点 ◆塑胶件表面处理新工艺: SiO2 TiO2 (交替 叠加 蒸镀) 离子源 塑胶产品 喷透明底漆 喷颜色中漆 喷UV 注塑 光学镀膜 大，无法体现素材表面细腻的纹理 纯白色、黑色、七彩色无法制作 快 需要 需要 蒸发镀 小，可镀出细腻的纹理 任何颜色 快 需要 需要 光学镀 素材表面纹理遮盖力 颜色 打样 速度 喷油夹具 注塑 模具 工艺 对比项 目前研发阶段的直通率为50%左右（已试产1K），正式量产可有所提高，这是一个新工艺，会存在不稳定的因素。 成本高过蒸发镀，产能一天5-6K/一台机，GEMS目前有1台机。 测试结果见附件，从结果可以看出能满足目前客户的品质要求。 GEMS Confidential Sep ,15, 2012