常压辉光放电及其在薄膜表面处理中的应用.pdfVIP

　　　 . 2002　　　　　　　 　 　 　　　　　 . 28 . 120 ·44 · D ec H IGH VOL TA GE EN G IN EER IN G V o l N o 常压辉光放电及其在薄膜表面处理中的应用 A tm o sphere P ressu re Glow D ischarge and Its A pp lication in F ilm Su rface T reatm en t 林福昌, 何　磊, 戴　玲, 李　劲 (华中科技大学脉冲功率研究与发展中心, 武汉 430074) 摘　要　常压辉光放电( ) 是具有较高电子能量的非 A PGD 百 Pa) 下才能产生, 因其密度低, 电子难以在全行程 平衡等离子体, 比低压辉光放电更易于实现工业化应用。比 中发生足够多的碰撞次数, 雪崩不会很高, 同时空间 较了几种获得常压辉光放电的实验方案, 基于对常压辉光放 电等离子体基本物化特性的深入了解, 探讨了各种等离子体 电荷的幅度也很低, 不足以形成能加强电离的局部 ( ( 电场, 因此放电电流不会很大, 通常为mA 级 或更 气氛对于绝缘介质薄膜电气及化学特性的作用 比如憎水 ) 性、表面位能等 , 并将之用于绝缘介质薄膜的表面处理中, ) ( ) 低 的辉光放电 或汤生放电 。当气压升高时, 因电 对于薄膜性质的改善起到了较好的作用, 对常压辉光放电等 子与气体分子、原子、离子等产生频繁碰撞以及空间 离子体的应用作了有益的尝试。 Abstract　A tmo sphere P ressure Glow D ischarge (A PGD ) 电荷对电场的畸变作用使得电离度大大加强, 故可 is non - equilibrium p lasm a of h igh electron energy, w h ich 获得电流在A 级以上放电的电弧放电。 is mo re app licable industrially compared w ith low - p ressure 大气压下辉光放电须由介质阻挡和高频的交流 glow discharge (a vacuum system is needed). M uch interest ( ) 电源在某些特定的气体 如氦气、氮气 内获得, 介质 has been focused in th is area recently. In th is article, sever 可以覆盖在电极上或者悬挂在放电空间。放电空间 al experim ent designs of generating A PGD are compared w ith each o ther, besides, based on the p rofound know ledge 在击穿之前, 若其中