[理化生]有机合成课件.ppt

选择性保护参阅?现代有机合成化学—选择性有机合成反应和复杂有机分子合成设计? 20-53页 ClCH2CO除去: 硫脲，吡啶水溶液，NH3/MeOH, H2NCH2CH2SH, H2NCH2CH2NH2, PhHNCH2CH2NH2, 糖类合成常用H2NNHC(=S)SH/dioxane-iPr2NEt代替硫脲。 生成烷氧基醚类保护基 常用烷氧基基醚保护基：甲氧基甲基醚(MOM)、甲硫基甲基醚(MTM)、甲氧基乙氧基甲基醚(MEM)、苄氧基甲基醚(BOM)、三甲硅基乙氧基甲基醚(SEM)、四氢吡喃(THP) 2）苄氧羰基（Cbz或Z） 常用保护试剂：苄氧甲酰氯（CbzCl） 常用脱保护剂：催化氢解、锂氨还原 9 HO(CH2)5COOH HO(CH2)5CH(OH)CH3 1 习 题 2 * * 5 保护基团 为使反应能顺利实现，一方面需要导向基，把反应活性中心突出出来；另一方面还必须把不必参加反应，而又有可能参加反应，甚至是优先反应的官能团，暂时的隐蔽起来，从而使必要的合成反应顺利地进行。这种暂时的隐蔽官能团的作法，称为官能团的保护。为了保护其他官能团而引入分子内的官能团，称为“保护基”(Protective groups)。 对保护基的具体要求： 一般说来，保护基应满足下列三点要求： 1．容易引入所要保护的分子中； 2．与被保护分子能有效的结合； 3. 在保持分子的其他部分结构不损坏的条件下易除去。 1、羟基的选择性保护 生成酯类保护基 常用酯类保护基： tBuCO（Piv）、PhCO、MeCO、ClCH2CO 酯类保护基的除去：碱性条件下水解能力 tBuCOPhCOMeCOCICH2CO tBuCO除去：KOH/MeOH, LiAlH4,DIBAL,KBHET3 PhCO除去: NaOH MeCO除去: K2CO3, NH3, Et3N, iPr2NEt, 肼，胍 生成硅醚保护基 常用硅醚保护基：Me3Si (TMS), Et3Si (TES), tBuMe2Si (TBDMS或TBS), iPr3Si (TIPS), tBuPh2Si (TBDPS) 硅醚保护基的除去： 酸水解稳定性：TMS(1)TES(64) TBDMS (20,000) TIPS (700,000) TBDPS (5,000,000) 碱水解稳定性：TMS(1)TES(10-100) TBDMS=TBDPS (20,000) TIPS (100,000) 生成烷基醚类保护基 常用烷基醚类保护基：甲基醚（Me）、苄基醚（Bn）、对甲氧苄基醚（PMB）、3，4-二甲氧苄基醚（DMB或DMPB）、三苯甲基醚（Tr）、叔丁基醚(tBu)、烯丙基醚 (Allyl) 醇类——羟基的常用保护 特性： 醇易氧化，易烷化成醚、酰化成酯，仲醇和叔醇还容易脱水。 1 形成甲醚类 2 形成叔丁基醚类 3 形成苄醚 4 形成三苯基甲醚 5 形成甲氧基甲醚 6 形成四氢呋喃 7 形成三甲硅醚 8 形成叔丁基二甲硅醚 9 形成乙酸酯类 10 形成苯甲酸酯类 11 形成苯磺酸酯类 例1 例2 例3 设计路线合成 二醇的保护 ◎形成缩醛或缩酮 ◎形成碳酸环酯 Comin, M. J.; Elhalem, E.; Rodriguez, J. B. Tetrahedron 2004, 60, 11851. Fujioka, H.; Nagatomi, Y.; Kotoku, N.; Kitagawa, H.; Kita, Y. Tetrahedron Lett . 1998, 39, 7309. Fujioka, H.; Nagatomi, Y.; Kitagawa, H.; Kita, Y. J . Am. Chem. Soc. 1997, 119, 12016. Scafato, P.; Leo, L.; Superchi, S.; Rosini, C. Tetrahedron, 2002, 58, 153 2、氨基的选择性保护 N-酰基氨基保护基： 1) 叔丁氧羰基（Boc） 常用保护试剂：Boc2O(di-tert-butyl dicarbonate), BocON(2-(tert-butoxycarbonyloxyimino)-phenylacetonitrile) 常用脱保护剂