PECVD 镀膜后小亮点报告.pptVIP

工艺技术部 C2 A班 日期： 2011年 04 月 26 日D PECVD镀膜后出现小亮点报告 Add your text in here 问题描述 1 Add your text in here 原因分析 2 Add your text in here 原因分析 Add your text in here 解决方案 3 Add your text in here 解决办法 预防措施 4 问题描述 1 1.3#PECVD镀膜后，表面出项小亮点。小亮点用显微镜观侧后，亮点与硅片表面无高度差，亮点位置有绒面。 2.表面严重的小亮点，造成B级电池片. Add your text in here 原因分析 2 镀膜后出现 小亮点 1.PE原因： 进料腔或预热腔 有氮化硅粉尘 2.PE之前 工序原因 3.片源 原因 Add your text in here 原因分析 Add your text in here 解决方案 3 一.PE排查： 1.取5片洗磷后的硅片，在2#pe机台做，也同样出现小亮点。 2.打开3#PE机台进料腔，擦拭腔体内的氮化硅粉尘， 3.取5片洗磷后硅片，用3#PE机台产出，仍有小亮点，亮点有所数量减小 排查结论：1）两台pe均有问题 2）PE之前工序有问题 Add your text in here 原因分析 Add your text in here 解决方案 3 二.PSG排查 取洗磷前，扩散后的硅片1片，在3#PE机台镀膜.扩散面有小黑点，表面有可除去的粉尘，原因：扩散后未洗磷吸附性比较强. 三.扩散排查 取制绒后，扩散前的制绒的掉角片3片，在3#PE机台镀膜，镀膜后表面仍有小亮点， 四.制绒排查 取前检原始硅片（崩边不良）3片，直接在3#PE机台镀膜，镀膜后表面仍有小白点， Add your text in here 原因分析 Add your text in here 解决方案 3 五、片源排查. 取片源晶拓的硅片3片，与片源P451-6-1104191的正常硅片2片，经过制绒---PSG---3#PE后，镀膜后两种片源，均有小亮点。 排除片源原因 Add your text in here 解决办法 预防措施 4 1.PE定期PM时，仔细清理进料腔，预热腔的氮化硅粉末。