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[理学]半导体物理_第一章
半导体物理与器件Semiconductor Physics and Devices中北大学电子科学与技术系张国军E-mail: zhangguojun1977@nuc.edu.cnTel: 3920350 (O) (m) 本课程的讲授内容 第一章 固体的晶体结构(2学时) 第四章 平衡状态下的半导体(2学时) 第五章 载流子输运与过剩载流子现象(2学时) 第六章 半导体中的非平衡过剩载流子 (2学时) 第八章 pn结二极管 第九章 金属半导体和半导体异质结 (2学时) 教材与参考书教材:推荐教材为电子工业出版社出版的《半导体物理与器件》,作者Donald A.Neamen。参考书:顾祖毅,田立林等《半导体物理学》, 电子工业出版社,1995。刘恩科 《半导体物理学》,西安交通大学出版社,2003。 曹培栋《半导体器件》,电子工业出版社,2003 第一章固体的晶体结构本章学习要点:1. 了解半导体材料及其特点;2. 认识固体材料的三种主要结构类型;3. 理解几种基本的晶体结构以及晶向、晶面的概念;4. 了解半导体单晶材料的主要生长方法;5. 了解SOI材料的制备方法6. 理解能带论中绝缘体、导体、半导体的划分 §1.1 半导体材料1. 半导体材料的主要特征: 元素周期表中与半导体材料相关的部分元素: 2. 半导体材料的分类:(1)元素半导体:完全由同一种元素构成的半导体材料,例如硅(Si)、锗(Ge)等。(2)化合物半导体:由两种或两种以上不同元素构成的半导体材料,例如砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、碳化硅(SiC)、铝镓砷(AlGaAs)等。 几种不同类型的半导体材料 §1.2 固体材料的三种主要结构类型固体:处于凝固状态下的物体,通常具有一定的形状和体积。按其内部原子的排列情况可分为单晶,多晶和非晶三类。 §1.3 晶体的空间点阵结构1.原胞、晶胞与基矢:晶格(Lattice):晶体中原子的周期性排列形式,分为简单晶格和复式晶格两大类。格点(Lattice point):晶格中用来表示原子阵列的点; 2. 立方晶系基本的晶体结构:常见的三个基本的立方结构及其晶格常数(立方体的边长即为晶格常数)。(1)简单立方结构(SC)(2)体心立方结构(BCC)(3)面心立方结构(FCC) 3. 晶向、晶面与密勒指数:晶体的一个基本特点就是具有方向性。 假设a、b、c是晶体的三个独立的基矢,连接晶体中任意两个格点之间的矢量可以表示为: r=la+mb+nc 上式中l、m、n为整数或分数,习惯上我们一般选取与l、m、n成比例的三个互质整数u、v、w,并把它们放在方括号内[u v w],用来表示特定的晶向。 由晶体中的原子排列所构成的平面称为晶面。密勒指数(布拉伐格子):假设某个晶面与a、b、c轴的截距分别为pa、qb、sc,且p、q、s为整数,习惯上我们一般选取与p、q、s的倒数成比例的三个互质的整数h、k、l,即并把它们放在圆括号内(h k l),用来表示特定晶面的取向。通常把这组晶面指数称为密勒指数。 4. 金刚石结构与闪锌矿结构: 图示为金刚石结构,锗、硅单晶材料均为金刚石结构,它是由两个面心立方结构沿体对角线方向平移1/4对角线长度套构形成。 晶体的结构决定了晶体的性质: 图示为闪锌矿结构,砷化镓等化合物单晶材料即为闪锌矿结构,它也是由两个面心立方结构套构形成。 §1.6 半导体单晶材料的生长 硅单晶材料可以说是目前纯度最高的一种材料,其纯度已达到百亿分之一。生长半导体单晶材料的方法主要有以下几种:1. 熔体生长法:又称为切克劳斯基(Czochralski)生长方法,或CZ法。 先籽晶直拉,进一步采用区熔再结晶方法提纯: 籽晶直拉法示意图 实际拉制出的12英寸硅单晶锭该硅单晶锭长1米,直径300毫米,重量达140千克 将硅单晶锭切割成硅晶园片的切片机 工作人员利用卡塞(Cassette)装载的300毫米硅晶园片 2. 外延层生长法:外延生长方法按照材料的类型可分为以下两大类:(1)同质外延(homoepitaxy);(2)异质外延(heteroepitaxy);常用的外延方法有:(1)化学气相淀积法(CVD):也称为气相外延法(VPE)SiCl4+2H2→Si+4HCl(2)液相外延法(LPE):温度低于CZ法,常用于化合物半导体材料的外延。(3)分子束外延法(MBE):高真空,400至800℃,可精确控制。 气相外延法(VPE)示意图 分子束外延(MBE
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