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LPCVD氮化硅薄膜室温高强度可见光发射
20 1 Vol . 2 0 , No . 1
1 99 9 3 CHINE EJOU RNAL OF LUM INE CENCE Mar. , 1999
LPCVD氮化硅薄膜室温高强度可见光发射*
刘渝珍 石万全 刘世祥 姚德成 刘金龙
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韩一琴 赵玲莉 孙宝银 叶甜春 陈梦真
( , 100039)
a) ( , 100010)
5. 0eV , LPCVD ,
2. 97, 2.77, 2. 55, 2. 32, 2. 101. 90 ,
eV PL
, .
LPCVD, ,
1 引 言
,
+
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N
[ 1]
, ( LPCVD)
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, .
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2 实 验
110 ( 100) ,
LPCVD cm p
. 41950- / . 110- 2 .
LPCVD L H Z Pa
4 ( 5% ) 3 , 55 , 860 , 860
iH NH Pa
3+
20. Nd YAG ( 265nm) , E CALAB5 X-
ray , D/ max-RB X , Nicolet Magna IR750,
, ( PL) .
3 实验结果
X .
( IR) 7001055cm- 1, Herman J.
[ 2]
tein LPCVD IR .
- 1 [ 3] - 1
3 4940 , 1045
i N cm cm
[ 4] - 1 [ 5]
( 2) - - , 486. 65 x ,
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38 20
i-O- i . IR N-H
- 1
( 1175cm ) ,
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