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第二章之3复杂控制系统
2.3 复杂控制系统 串级控制系统 均匀控制系统 比值控制系统 选择控制系统 分程控制系统 前馈控制系统 多冲量控制系统 2.3.1 串级控制系统 氨氧化炉的温度控制(HNO3生产) SP 废热锅炉 反应区 过滤器 NO 鼓风机 混合气 空气 气开 NH3 预热器 反作用 TC NH3与空气在氧化炉中(铂触媒催化)进行氧化反应: 工艺要求:氧化率大于97%,反应温度840±5℃ 氧化炉是个复杂的对象,氧化率的测取只能由间接指标(氧化炉的温度)来反映。影响温度的干扰有:NH3流量、NH3总管压力、空气流量、触媒活性等。选择NH3流量为操纵变量,调节氧化炉温度在给定值上。这是一个简单调节系统。 该系统的特点是:所有影响反应温度的干扰因素,统统包含在调节回路中,反应在温度对设定值的偏差上,并且都由温度控制器加以克服。 问题: 反应不灵敏,动作迟缓,过渡过程时间长,超调量大,当干扰稍大时,温度偏差在±10℃(比手动操作时的20——30℃好些)。 原因: 对象调节通道长,温度检测滞后大,尤其对NH3流量方面的干扰不能及时克服,NH3流量变化1%,温度就会变化64℃。 若改成NH3流量的定值调节,NH3的流量很稳定,但温度仍有±8℃的误差。 分析对象:在稳定情况下,NH3流量几乎是一条直线变化,但氧化炉的温度却不稳定(如早晚气候的影响),空气流量、系统压力、铂触媒活性等也会影响温度。这些干扰因为NH3的稳定而无法克服。一方面,NH3流量的稳定是必要的;另一方面,如果由于氧化炉温度变化,氨的流量可以相应调整就好了!即根据炉温的变化来调整NH3流量调节器的设定值,使氧化炉温度减小波动。 人们在生产实践中发现,当NH3流量之外的干扰引起温度变化时,就手动调整NH3流量调节器的SP值,从而改变NH3流量,使温度恒定。这个经验告诉我们,流量控制器应听从反应温度的指挥。即流量调节器的SP值应由反应温度来决定变与不变、变多少、朝哪个方向变。因此,就出现了反应温度信号来自动校正流量控制器设定值的方案。 这就是用氧化炉温度自动调整NH3流量调节器给定值的调节系统。系统投入运行后,调节速度快,过渡过程短,调节品质高,偏差小,负荷变化大时,温度偏差不超过±5℃。 这就是串级控制系统。“TC”的输出不直接作用于阀门,而是作为“FC”的设定值,通过与NH3流量信号的比较,“FC”的输出作用于调节阀,改变NH3流量,把温度稳定在给定值上。类似这样利用两个或更多个调节器串联在一起进行调节,以更好地稳定一个被控变量的系统,就是串级调节系统。 在这样一个多回路调节系统中用了二台调节器,它们分别接受来自对象不同部分的测量信号,其中一台调节器的输出作为另一台调节器的外给定输入,而由后者的输出去控制阀门,以实现对生产过程的控制。从系统的结构图看,这二台调节器是串接的,故称为串级调节系统。 2.3.1 串级控制系统 FC 进料 塔底采出 1 2 蒸汽 方案2:控制蒸汽流量恒定 TC 进料 塔底采出 1 2 蒸汽 方案1:控制塔釜温度恒定 单回路控制的局限性 目标:控制塔釜温度稳定 方案1 优点:将所有对温度的干扰都概括在控制回路内。 缺点:当蒸汽压力波动较大时,由于温度对象滞后较大,控制质量不理想。 方案2 优点:能及时克服蒸汽压力的干扰对温度的影响 缺点:不能克服进料流量、物料温度等其他因素对温度的影响。 PC TC 进料 塔底采出 1 2 蒸汽 希望在塔釜温度不变时蒸汽流量能保持设定值,而当塔釜温度在外来干扰的作用下偏离给定值时,又要求蒸汽流量能作相应的变化,使塔釜温度保持在设定值上。 蒸汽 进料 塔底采出 1 2 FC 方案3:串级控制系统 TC 流量控 制器FC 执行器 流量对象 温度T 设定值 干扰f1 精馏塔控制系统方块图 温度对象 温度控 制器TC - + - + 干扰f2 温度检测仪表 流量检测仪表 F 副控 制器 执行器 副对象 主变量 设定值 主干扰 串级控制系统方块图 主对象 主控 制器 - + - + 副干扰 主测量、变送 副测量、变送 副变量 副回路 主回路 常用的名词 主变量 副变量 主对象 副对象 主控制器 副控制器 主回路 副回路 串级控制系统方块图 串级控制系统的工作过程 干扰作用于付回路 NH3压力增加 流量增加 调节器输出减小 温度上升 TC输出减小 NH3流量减小 阀门开度减小 偏差 小干扰,付环解决;大干扰,主、付环共同解决。 串级系统的特点 总体来看,仍然是一个定值调节系统。 1、能迅速克服进入副回路的干扰,副回路起到了“粗调”的作用。对于进入付回路的干扰有较强的抗干扰能力。 (1)干扰的量
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