高分子合金第二章(相容性).ppt

与OsO4相比，RuO4是很不稳定的，并且在聚合物中的扩散也较难，因此，为保证染色的有效性，必须使用新制备的染色剂。最好的方法是利用RuO2和过碘酸钠的反应原位（in situ）生成RuO4，其配方如下： 0.15g RuO2 X H2O 0.7g NaIO4 25ml H2O 用这种方法制备的RuO4溶液保存在棕色玻璃瓶中可保持活性2～5天。 与OsO4染色不同，用RuO4染色通常试样是在切片后而不是切片前被染色。将切片暴露到溶液上方的蒸气中熏10～60秒。然而，即使是薄的切片，染色可能仅限于试样的外表面。 除了OsO4、RuO4外，人们还发现一些特殊的染色剂例如：三氟乙酸汞[1]有选择性地加到含有给电子基（如氧）的芳香环上；磷钨酸[1～3]可选择性地染色许多结晶聚合物的非晶区； 碘[2，4]，氯磺酸[1，5]和硫化银[6]也被用于染色聚合物试样，但其应用多半限于研究结晶性均聚物和纤维。 [1] K. Hess, E. Gutter, and H. Mahl, Kolloid Z., 1960，168, 37 [2] A. Peterlin, P. Ingram, and H. Kiho， Makmmol. Chem.，1965，86, 294 [3] E. Belavtseva, yvsokmol. Soed., 1963，5, 1847 [4] K. Hess and H. Kiessig, Naturwissenschaften, 1943，31, 171 [5] G. Kanig, Kolloid Z. Z. Polym., 1973，251,782 [6] R. Hagege. M. Jarrin, and M. Sotton, J. Microscopy, 1979，115, 65 ②蚀刻和抽提 除了染色之外，蚀刻和抽提也是用来增强聚合物共混体系相间反差的重要方法。 通常的做法是选择某一组分的良溶剂（该溶剂对体系中其它组分没有影响）将这一组分溶解掉。 这种方法依赖于共混体系各组分的溶解性能的差别，溶剂的选择十分关键。 PBT－聚烯烃共混物断裂表面的SEM像，示出由于分散的聚烯烃相的部分脱开而形成的粒子和空穴。 ③观察相结构和形态 RuO4染色的PBT－PPO 树脂共混物超薄切片TEM像，由于染色的上下表面的重叠而产生假的界面层（箭头所示） DETA蚀刻重结晶的PBT－PC共混物自由表面的SEM像，示出除去PC后留下的PBT片晶束。 DETA=diethylene triamine（二亚乙基三胺） 从HIPS树脂中萃取的聚丁二烯粒子的SEM像， （萃取过程是在甲苯中溶解PS，然后离心分离。） 萃取的HIPS橡胶粒子（在环氧树脂中重新包埋并用OsO4 染色）的TEM像。注意橡胶粒子外围薄的PS接枝层（箭头所指），在原树脂中是观察不到的。 用甲苯蚀刻以除去分散相PPO的尼龙－PPO树脂共混物切片表面的SEM像 RuO4染色的PMMA/PBT/PS三元共混体系超薄切片的TEM像，在PMMA基体中分散的PS和PBT区 RuO4染色的PMMA/PBT/PC三元共混体系超薄切片的TEM像，在PBT基体中PC包封的PMMA区 RuO4染色PBT/PC/PS/SAN四元共混体系的超薄切片的TEM像，在PBT基体中PC和SAN包封的PS区 经 RuO4染色的含有C黑的PC/PMMA/SAN三元共混物超薄切片的TEM像 未染色的含有C黑的PC/PMMA/SAN三元共混物超薄切片的TEM像，注意：在未染色切片的PC相中可以看到碳黑粒子 （3）研究聚合物共混体系的相分离 用显微镜方法可以通过直接观察聚合物共混体系在一定条件下相结构的变化情况，进而判断其像相分离机理。 淬火的PBT/PC/PPO树脂共混物切片经等离子体蚀刻试样在270℃退火发生随时间变化再聚结的SEM像，(a)1分钟，(b)2分钟，(c)3分钟和(d)5分钟。 部分聚结的PBT/PC/PPO树脂共混物的TEM像，表明PC层间（大箭头）和分散的PPO树脂区（小箭头）的按序聚结。 溴化的PS区在PBT基体中在270℃发生再聚结的SEM BS像。这些图像来自于在特殊构造的SEM热台上实时记录的录像带。三幅照片的时间间隔约为5秒。 在正常的操作电压（10－30kV）下，具有不同组成的相间反差差别在背散射电子像（BS）中最为明显，但其分辨率较