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MOSFET工艺流程简介
MOSFET工艺流程简介
Mosfet学习资料
myung_yao
工艺说明：Lot in
NO. Operation condition Equipment
1 打标 Mark-II 打标目的主要给硅
片编号,包括批号和
片号。
不能太深，否
则激光轰击时 H-V：Sb dopant.
产生过多颗粒 L-V：As dopant
N-Epitaxy
N+Substrate
使用SiO2层作为背
封层
Thickness Substate dopping EPI dopant
625um 0.015 Ω–cm Ph
Confidential GuoYu Semiconductor co.,Ltd
NO. Operation condition Equipment 工艺说明：F-OX
2 前处理 SC1+SC2 清洗台 场氧生长后，起到分压环
3 F_OX 1000C Furnace 场板的作用.
4 膜厚测定 NANO Spec
膜厚控制中, 样片不需要
清洗,测试时测量上、中、
下、左、右5点
F_ox
N-Epi
10000+500A，
采用湿法生长
Confidential GuoYu Semiconductor co.,Ltd
NO. Operation condition Equipment
5 HMDS 工艺说明：RIN
6 匀胶 coating coater 光刻主要开出保护
7 曝光 RIN align Stepper 环图形
8 显影 Develop
9 检验 ADI Inspector
先行片需检查9点，
观察图形线条,注意 整批检查需查看5点.
有无CD超标现象
PR PR
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