半导体外延生长对光刻对准的影响-集成电路工程专业论文.docxVIP

半导体外延生长对光刻对准的影响-集成电路工程专业论文.docx

  1. 1、本文档共42页,可阅读全部内容。
  2. 2、有哪些信誉好的足球投注网站(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
半导体外延生长对光刻对准的影响-集成电路工程专业论文

目录第一章绪论..................................................................................................................11.1 大规模集成电路制造简介.......................................................................11.2 半导体外延生长原理简介.......................................................................41.3 半导体光刻对准原理简介.......................................................................61.4 研究光刻对准与外延生长的相关性和重要性.......................................61.5 课题内容、背景与意义..........................................................................7第二章光刻工艺流程简介及对准原理......................................................................82.1 光刻的工艺流程简介...............................................................................82.2 光刻对准的重要性.................................................................................13第三章外延生长的方法和基本原理........................................................................153.1 外延在半导体中的功能.........................................................................153.2 外延生长所使用的气体.........................................................................163.3 外延生长前的清洗.................................................................................173.4 外延生长的原理介绍.............................................................................183.5 外延生长的中的掺杂.............................................................................203.6 外延生长所使用的机台.........................................................................213.7 外延生长中重要的制程参数................................................................. 223.8 外延生长中常见的几种缺陷................................................................. 23第四章外延生长和光刻对准的相关性研究............................................................264.1 外延生长中的图形漂移.........................................................................264.2 图形漂移对光刻对准的影响................................................................. 264.3 在外延工艺中利用温度来控制图形漂移的方法.................................27第五章结论与意义.......................................

文档评论(0)

sheppha + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

版权声明书
用户编号:5134022301000003

1亿VIP精品文档

相关文档