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玻璃基板簡介 玻璃基板的結構 玻璃基板的制造流程簡介 玻璃基板的具體流程簡介 制程DEFECT 發展趨勢 一.玻璃基板的結構 玻璃基板由CF和TFT兩部分組成,如圖: 上偏光板 上玻璃 顏色區 保護膜 ITO共用極 ITO顯示電極 液晶 補價電容 下偏光板 反射板 棱鏡板 導光板 光擴散板 間隙粒子 電晶體 框膠區 異方性導電膜 驅動IC TAB 印刷電路板 黑 色框罩 背光燈管 二,.玻璃基板的制造流程簡 介 TFT-LCD的整個制程一般可分為三個階段即TFT陣列基板形成階段,TFT-LCD之 形成階段及LCD模組形成階段,如圖,而我們最主要講的是玻璃基板形成之階段 薄膜制程 RGB膜涂布 鍍BM膜 T 5-7 R C F 道 黃光制程 G RGB 圖樣 黃光制程 F T 光 B 制 制 罩 蝕刻制程 RGB顯影 蝕刻制程 程 程 TFT測試 檢 視 配向膜涂布及刷磨 TFT及CF封准組合 切割裂片 液晶注入 上下偏光板貼合 LCD電測目檢 LCD制程 FPC壓著 封膠 機殼及背光源組裝 LCM檢測 LCM制程 三.玻璃基板的具體流程 TFT陣列式基板形成階段 TFT array之制程主要清洗,成膜,而后黃光制板,后再經蝕刻制程形成所要的圖樣,然后依光罩數而作 循環制程,在這循環制程中要先將洗淨的玻璃基板送進濺鍍機台鍍上一層金屬后,再用黃光及蝕刻制程形成閘極,區域圖樣,隋后玻璃基板經光阻剝離洗淨,再以薄膜區電漿輔助化學相沉積機台形成用作主動區域,經過一系列的協作.后以薄膜區化學氣相沉積楊台上形成TFT區域保護層,挖出接角也洞,再濺鍍上一層氧化錮錫膜(ITO),再用黃光及蝕刻區制程形成畫素區域圖樣而在這循環制程中以后通TFT蝕刻制程為主要步驟. TFT的結構依閘,源,汲極沉積的先后順序,大致可分為四類,如圖,目前正在產量TFT多是以反轉堆疊式結構為主,而因它構造簡單及制程容易則廣泛被TFT制造業者所采用,又由於制程有差異分為:1)后通道蝕刻TFT,2)后通護TFT或再稱為三層結構TFT.TFT的制作流程關鍵步驟是蝕刻后通道端的N型非晶矽.以形成閘極可控制的通道,這一般是幹蝕刻法,而造成漏電流的原因可能后通道在作幹鹿記得時容易造成物摶殘留. 四種常見的TFT結構示意圖 共平面 正常型 反轉型 堆疊型 gate source drain drain source gate drain source gate drain source gate 在TFT-LCD玻璃完成所有制程后,再配合上另一擤具有紅,綠,藍彩色濾光膜的玻璃,先配向膜刷,配向處理,間隔物的涂布及上框膠之后再進行兩片玻璃上下封組,切割裂片磨邊導角,清洗,再進行液晶注入及封口,最后再目檢及電測,其中最重要的步驟如下: 1)配向處理 目前所采用的配全處理方法是刷磨處理,主要是以捲在金屬滾軸的絨布刷磨燒制后的配向膜,使液晶分子能