真空镀膜技术发展历史.DOC

真空镀膜技术发展历史 化学镀膜最早用于在光学元件表面制备保护膜。随后，1817年，Fraunhofe在德国用浓硫酸或硝酸侵蚀玻璃，偶然第一次获得减反射膜，1835年以前有人用化学湿选法淀积了银镜膜它们是最先在世界上制备的光学薄膜。后来，人们在化学溶液和蒸气中镀制各种光学薄膜。50年代，除大快窗玻璃增透膜的一些应用外，化学溶液镀膜法逐步被真空镀膜取代。 　　真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺，是迄今在工业领域能够制备光学薄膜的两种最主要的工艺。它们大规模地应用，实际上是在1930年出现了油扩散泵---机械泵抽气系统之后。 　　1935年，有人研制出真空蒸发淀积的单层减反射膜。但它的最先应用是1945年以后镀制在眼镜片上。 　　1938年，美国和欧洲研制出双层减反射膜，但到1949年才制造出优质的产品。 　　1965年，研制出宽带三层减反射系统。在反射膜方面，美国通用电气公司1937年制造出第一盏镀铝灯。德国同年制成第一面医学上用的抗磨蚀硬铑膜。在滤光片方面，德国1939年试验淀积出金属—介质薄膜Fabry---Perot型干涉滤光片。 　　在溅射镀膜领域，大约于1858年，英国和德国的研究者先后于实验室中发现了溅射现象。该技术经历了缓慢的发展过程。 　　1955年，Wehner提出高频溅射技术后，溅射镀膜发展迅速，成为了一种重要的光学薄膜工艺。现有两极溅射、三极溅射、反应溅射、磁控溅射和双离子溅射等淀积工艺。 　　自50年代以来，光学薄膜主要在镀膜工艺和计算机辅助设计两个方面发展迅速。在镀膜方面，研究和应用了一系列离子基新技术。 　　1953年，德国的Auwarter申请了用反应蒸发镀光学薄膜的专利，并提出用离子化的气体增加化学反应性的建议。 　　1964年，Mattox在前人研究工作的基础上推出离子镀系统。那时的离子系统在10Pa压力和2KV的放电电压下工作，用于在金属上镀耐磨和装饰等用途的镀层，不适合镀光学薄膜。后来，研究采用了高频离子镀在玻璃等绝缘材料上淀积光学薄膜。70年代以来，研究和应用了离子辅助淀积、反应离子镀和等离子化学气相等一系列新技术。它们由于使用了带能离子，而提供了充分的活化能，增加了表面的反应速度。提高了吸附原子的迁移性，避免形成柱状显微结构，从而不同程度地改善了光学薄膜的性能，是光学薄膜制造工艺的研究和发展方向。 　　实际上，真空镀膜的发展历程要远远复杂的多。我们来看一个这个有两百年历史的科技历程： 　　19世纪 　　真空镀膜已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。 　　1805年, 开始研究接触角与表面能的关系(Young)。 　　1817年, 透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。 　　1839年, 开始研究电弧蒸发(Hare)。 　　1852年, 开始研究真空溅射镀膜(Grove;Pulker)。 　　1857年, 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday;Conn)。 　　1874年, 报道制成等离子体聚合物(Dewilde;Thenard)。 　　1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。 　　1880年, 碳氢化合物气相热解(Sawyer;Mann)。 　　1887年, 薄膜的真空蒸发(坩埚) (Nahrwold;Pohl;Pringsheim)。 　　1896年, 开始研制形成减反射膜的化学工艺。 　　1897年, 研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD); 膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。 　　20世纪的前50年 　　1904年, 圆筒上溅射镀银获得专利(Edison)。 　　1907年, 开始研究真空反应蒸发技术(Soddy)。 　　1913年, 吸附等温线的研究(Langmuir,Knudsen,Knacke等)。 　　1917年, 玻璃棒上溅射沉积薄膜电阻。 　　1920年, 溅射理论的研究(Guntherschulzer)。 　　1928年, 钨丝的真空蒸发(Ritsehl,Cartwright等)。 　　1930年, 真空气相蒸发形成超微粒子(Pfund)。 　　1934年, 半透明玻璃纸上金的卷绕镀(Kurz,Whiley); 薄膜沉积用的玻璃的等离子体清洗(Bauer,Strong)。 　　1935年, 金属纸电容器用的Cd:Mg和Zn的真空蒸发卷绕镀膜研究成功(Bausch,Mansbridge); 帕洛马100英寸望远镜镜面镀铝(Strong);光学透镜上镀制单层减反射膜(Strong,Smakula); 金属膜生长形态的研究(Andrade,Matindale)。 　　1937年, 使用铅反射器的密封光束头研制成功(Wright); 真空卷绕蒸发镀膜研制成功(Whiley); 磁控增强溅射