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贰科专可移转技术清册
貳、科專可移轉技術
清冊
45
項 計畫 技術 技術現況 技術可應用 聯絡 產出
領域 技術規格 電話
次 名稱 名稱 敘述 範圍 人員 單位
大面積RTP
可線性 採用DSMC分析噴嘴設計及 在光電、綠
硒/硫化製 1 線性噴嘴。2.可應用於大面積蒸鍍 03-
綠能 蒸鍍之 鍍膜膜厚均勻性,採用噴嘴 能、軟性電 潘文 飛彈
1 程技術暨 系統。3.較少之材料耗損。4.高均勻 4712201
科技 蒸鍍設 設計預估得料率≧50%,非 子等產業相 玨 所
設備自主 性蒸鍍技術。 #352013
備噴頭 均勻度≦5%。 關研究領域 。
開發計畫
30cm捲軸三階段CIGS線性蒸
鍍製程設備系統規格,包括 :
(1)運轉測試:全機真空-操作
整合蒸鍍機台創新技術設計,包含減
真空 5×10-6 torr以下,製程
軟性太 熱模組、主動輪驅動等速以及放收料
真空 10-4 torr以下;基板加
陽能電 提供張力控制技術、放收料隔絕硒蒸
大面積RTP 熱溫度550℃±1%;尋邊控制
池光吸 氣影響、三階段蒸鍍CIGS佈置及製 在光電、綠
硒/硫化製 (±0.5cm );捲軸速度控制 03-
綠能 收層之 程程序、真空循邊技術、全系統模組 能、軟性電 潘文 飛彈
2 程技術暨 20±1cm。(2)銅銦鎵硒三階鍍 4712201
科技 製程設 化設計。開發線性蒸鍍模組,包含可 子等產業相 玨 所
設備自主 蒸鍍化合測試:維持銅銦鎵 #352013
備及其 高溫裂解硒之蒸氣模組、硒汙染防治 關研究領域 。
開發計畫 硒之溫度穩定性Cu溫度可達
製造方 cold trap設計、金屬線性蒸鍍模組等;
1500℃ ±1℃、In 溫度可達
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