X射线技术知识及应用.ppt

X射线技术及应用X-ray Analysis康士秀中国科技大学 22系2002. 7.; 1. X射线的产生和性质  1.1 导论 1.2 X射线的产生 1.3 X射线的性质2. X射线技术和应用 2.1 X射线衍射（XRD） 2.1 EXAFS，XANES 2.3 X射线形貌（XRT） 2.4 X射线成像（XRI） 2.5 X射线小角散（XRS） 2.6 X射线光刻（XRL） 2.7X射线荧光（XRF） 3. 结束语：X射线实验系列化研究;1. X射线的产生和性质;1.1 导论;固体靶源 同步辐射 等离子体源 同位素 核反应 其他 ;X射线管 ;转靶;焦点和辐射;同步辐射 (合肥);实验大厅 (Hefei);Hefei 电子储存环;北京同步辐射实验室 (BSRF);BSRF (Beijing);同步辐射和谱分布;SR辐射的能量和功率 (Larmor formula) (per e-, per run);功率谱分布 (Integrated to all angle);Fe 等离子体源; ;气体等离子体辐射的X射线谱; 几种源的谱比较;1.3 X射线的性质; X射线的吸收;对混合物和化合物;?/?, ? 和 Z 的关系 - Bragg-Pierce 定律; X射线光学;(1)X射线反射镜 折射率：;柱面镜;(3)毛细管X射线透镜;(4)X射线波带板; X射线探测器;2· X射线技术及应用;2.1 X射线衍射（XRD）(1) Debye 法;同步辐射（SR）XRD装置 （BSRF）;纳米微晶Fe的X射线衍射;(2)Laue 法;蛋白质的Laue衍射图;2.2 扩展的X射线吸收边（EXAFS）;2.3 X射线形貌 （白光形貌和双晶形貌）; X射线形貌图;2.4 X射线成像;扫描X射线显微镜装置;X射线显微术实验站;显微图;造影装置;兔耳造影 (注入BaFBr）;2.5 X射线小角散射;2.6 X射线光刻;SR X射线光刻装置（XRL）; X射线抗蚀剂 - 分类; - 光化学原理 单组分：;PMMA – poly (methylmethacrylate) - 聚甲基丙烯酸甲酯 positive tone, polymer chain scission type Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography Basic Parameters: Molecular weight 50 - 950 kg/mol Solids content 4% - 10% Glass-transition temperature 85 - 106% refractive index 1.49 (for 950k at 6328?) Solvent Chlorobenzene,chorobenzene/xylene MIBK (methyl-iso-butyl-ketone) MEK (methyl-ethyl-kotone) specific gravity 0.79 - 0.85 (MIBK) 1.08 - 1.14 (chlorobenzene) Flash point 28OC - chlorobenzene 17% - MIBK Appearance colorless liquid Filtration 0.20 ?m Sensitive wavelength: 200 - 240nm Store conditions: one year, 10 - 21%; -2c 3c(双组分和三组分抗蚀剂);- 特性