何慈辉光刻经典案例.ppt

表面微细加工－光刻技术 这是奔腾IV的核心 光刻工艺 光刻加工是微细加工技术中最重要一种方法。 光刻加工是一种复印图象与化学刻蚀相结合的综合技术，目的是利用光学方法将计算机上设计的图形转换到工件上。 基本原理是利用光刻胶在曝光后化学性质发生改变这一性质。 主要包括光刻与刻蚀两个主要加工步骤。 光刻工艺的基本步骤 基片处理 涂胶 曝光前烘 曝光 曝光后烘 显影 清理处理 显影后烘 显影后检查 刻蚀 脱胶 清洁处理 边缘平整度 抗反射涂层 湿法刻蚀和干法刻蚀 形成保护层 提高分辨率 减小光刻光源波长 深紫外光刻 极紫外光刻 准分子激光光刻 X射线光刻 电子束光刻 离子束光刻 增大数值孔径 光刻工艺的改进 化学机械研磨 “亮峰”技术的应用 光刻胶的发展与应用 纳米压印技术 软压印工艺 微接触印刷法 毛细管微模制法 热压印工艺 分步式模压曝光 微接触印刷法 毛细管微模制法 热压印工艺 分步式模压曝光工艺 纳米压印技术的应用 软压印工艺－生物医学领域 热压印工艺－光学、微机电系统领域 分步式模压曝光工艺－半导体领域