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2018-04-13 发布于河北
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10溅射法制薄膜

制作：10号——17号;;1、溅射的基本概念及原理;2、基本过程： ①自由电子被电场加速飞向阳极，与放电气体(通常是惰性气体—Ar气) 碰撞，使之失去外层电子而电离，形成Ar+和自由电子(见右图1)； ②Ar+受到电场加速飞向置于阴极的靶材，撞击出靶材原子，以及二次电子，使自由电子数↑ (见右图2)；;;3、溅射镀膜何以实现？气体放电 → 等离子体 → 带电离子 → 电场作用 → 离子加速→ 高能离子 → 撞击靶材 → 溅射 → 发射靶材原子 → 飞向基板→ 形成沉积 → 获得薄膜！ ;溅射是轰击粒子与靶原子之间动量传递的结果;2、溅射主要参数;;离子入射角度的影响：缓升—急升—急降;能量呈麦克斯韦分布，平均在10eV左右。溅射原子能量与靶材、入射离子种类和能量有关。;;溅射方法根据特征可分为：直流溅射、射频溅射、磁控溅射和反应溅射。;辉光放电直流溅射;（１）直流溅射：; 出发点：解决不具导电性的非金属材料溅射镀膜问题使用直流电源，靶材同时是阴极，不导电无法实现溅射 ;射频溅射制备薄膜实例; ① 传统溅射方法缺点：;③ 磁控溅射靶材：;帕邢（Paschen）曲线;（4）反应溅射：;② 靶中毒现象：;凌舵既郊另盼交凑琳扛晰纳落鳖挟夕将燕哲凄跌躯糯粱碘八试瘴哄回啃禄10溅射法制薄膜10溅射法制薄膜